特許

J-GLOBAL ID：200903072363156823

プラズマ処理による堆積膜形成装置

発明者： 寺西 康治 ,  高木 智
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-036277
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235953
出願日： 1999年02月15日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】【課題】本発明は、複数の大面積の基体上に安定的に堆積膜を形成でき、放電が安定し、膜厚が極めて均一で且つ高品質な堆積膜を高速度で安定に形成し、効率よく半導体デバイスを形成することができるプラズマ処理による堆積膜形成装置を提供することを目的としている。【解決手段】本発明は、減圧可能な反応容器内に高周波電力によりプラズマを生成するための棒状若しくは板状の導電性のプラズマ発生用の高周波電極を有し、前記高周波電極に30MHz以上600MHz以下の高周波電力を印加してプラズマを生起させ、そのプラズマ処理により被成膜処理基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、上記高周波電極が複数本の高周波電極からなり、これらの電極に同一電源より電力を分割して供給する構成を備え、該高周波電力の分割点と前記複数本の高周波電極間のそれぞれに高圧コンデンサが設置されていることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

減圧可能な反応容器内に高周波電力によりプラズマを生成するための棒状若しくは板状の導電性のプラズマ発生用の高周波電極を有し、前記高周波電極に30MHz以上600MHz以下の高周波電力を印加してプラズマを生起させ、そのプラズマ処理により被成膜処理基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、上記高周波電極が複数本の高周波電極からなり、これらの電極に同一電源より電力を分割して供給する構成を備え、該高周波電力の分割点と前記複数本の高周波電極間のそれぞれに高圧コンデンサが設置されていることを特徴とする堆積膜形成装置。

IPC (5件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/448 ,  C23C 16/505 ,  G03G 5/08 360 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 C ,  C23C 16/50 B ,  G03G 5/08 360 ,  H05H 1/46 M

Fターム (38件)：

2H068DA23 ,  2H068DA71 ,  2H068EA25 ,  2H068EA30 ,  4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030CA02 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030CA16 ,  4K030CA17 ,  4K030FA03 ,  4K030GA05 ,  4K030JA18 ,  4K030KA14 ,  4K030KA15 ,  4K030KA47 ,  4K030KA49 ,  4K030LA17 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AD06 ,  5F045AE17 ,  5F045AF10 ,  5F045BB01 ,  5F045BB09 ,  5F045CA16 ,  5F045DP04 ,  5F045DP22 ,  5F045DP25 ,  5F045DP28 ,  5F045DQ04 ,  5F045EH04 ,  5F045EH08 ,  5F045EH12 ,  5F045EH19

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-125770   出願人：キヤノン株式会社
• 堆積膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-320687   出願人：キヤノン株式会社
• プラズマCVD装置及びプラズマCVDによる堆積膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-081506   出願人：キヤノン株式会社
• プラズマ励起用電極
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-184450   出願人：国際電気株式会社