特許
J-GLOBAL ID:200903072470628797

3次元形状計測方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 板谷 康夫 ,  田口 勝美 ,  水田 愼一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-113385
公開番号(公開出願番号):特開2009-264862
出願日: 2008年04月24日
公開日(公表日): 2009年11月12日
要約:
【課題】位相シフト法を用いる3次元形状計測方法および装置において、簡単な構成により、表面に文字や柄などによる反射率の異なる領域が混在する被計測物体についても計測精度を向上可能とする。【解決手段】本装置1は、最良の計測結果を選択して決定するため、被計測物体の計測領域10に縞パターンを投影する2つの縞パターン投影部2a,2bと、撮像部3と、撮像部3からのデータを基に計測領域10の3次元形状を求める3次元計測処理部4とを備える。縞パターン投影部2a,2bが、撮像部3を挟んで向かい合うように、かつ撮像部3の光軸30に対して線対称に配置され、縞パターン投影部2a,2bから同じ縞パターンSPを投影する。各縞パターン投影部2a,2bからそれぞれ独立に縞パターンを投影して2種類の3次元座標を求め、撮像部3の撮像素子上の1点に対応して得られる2種類の3次元座標の平均値を計測結果として計測精度を向上させる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
明度が正弦波状に変化する縞パターンを異なる位相で3回以上被計測物体に投影して撮像し、得られた複数の画像を用いて各画素における被計測物体の3次元座標を位相シフト法により求める3次元形状計測方法において、 被計測物体の計測領域上方に撮像部を設置し、前記撮像部の光軸を含む平面内に投影用光軸を2つ設定し、前記投影用光軸の各方向からそれぞれ独立に計測領域に縞パターンを投影すると共に前記撮像部によって撮像して2種類の3次元座標を求める計測ステップと、 前記計測ステップにより前記撮像部の撮像素子上の1点に対応して得られる2種類の3次元座標の平均値を算出する演算ステップと、を含むことを特徴とする3次元形状計測方法。
IPC (2件):
G01B 11/25 ,  G01B 11/00
FI (2件):
G01B11/25 H ,  G01B11/00 H
Fターム (24件):
2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065FF06 ,  2F065FF09 ,  2F065HH03 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL41 ,  2F065LL59 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ42
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 基板検査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-152204   出願人:シャープ株式会社
審査官引用 (5件)
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