有害物質処理方法とその装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：橋本剛 , 鵜澤英久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-083523
公開番号（公開出願番号）：特開2009-233590
出願日： 2008年03月27日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：

【課題】還元剤を添加することなくガス中の有害物質を安価に無害化する。【解決手段】有害物質処理装置1はガスが供給されるガス通過部2と、このガス通過部2内に供給されたガスと接触させる光触媒フィルタ3(光触媒部材)と、この光触媒フィルタ3に含まれる光触媒の励起に必要な光を光触媒フィルタ3に照射する光源5を備える。光触媒フィルタ3は前記ガスに含まれる有害物質よりも酸化還元電位の高い金属または金属酸化物または金属水酸化物が担持された光触媒を含む。前記有害物質が二酸化窒素である場合、前記光触媒に担持させる金属または金属酸化物は銅または酸化銅である。前記光触媒は酸化チタン光触媒である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

有害物質よりも酸化還元電位の高い金属または金属酸化物または金属水酸化物を担持させた光触媒に光触媒の励起に必要な光を照射すると共に前記有害物質を含んだガスを接触させることで前記有害物質を還元することを特徴とする有害物質処理方法。

IPC (4件)：

B01J 35/02 , B01J 23/72 , B01D 53/86 , B01D 53/94

FI (4件)：

B01J35/02 J , B01J23/72 M , B01D53/36 J , B01D53/36 102C

Fターム (30件)：

4D048AA06 , 4D048AB02 , 4D048AB03 , 4D048AC10 , 4D048BA07X , 4D048BA35X , 4D048BB03 , 4D048CD05 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA04A , 4G169BA04B , 4G169BB02A , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BC31A , 4G169BC31B , 4G169CA10 , 4G169CA13 , 4G169EA11 , 4G169EB15Y , 4G169FA02 , 4G169FB14 , 4G169HA20 , 4G169HB02 , 4G169HB06 , 4G169HC02 , 4G169HC29 , 4G169HD10 , 4G169HE02

引用特許：

出願人引用 (2件)

舗装用ブロック
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-167170 出願人：三菱マテリアル株式会社
脱硝装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-208039 出願人：株式会社明電舎

審査官引用 (7件)

TiO2 系複合超微粒子及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-109172 出願人：ワイケイケイ株式会社
窒素酸化物除去性能にすぐれた酸化チタン光触媒
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-055148 出願人：テイカ株式会社
酸化チタン担持光触媒シリカゲルおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-093726 出願人：新東ブイセラックス株式会社, 岐阜県

全件表示

前のページに戻る