特許
J-GLOBAL ID:200903072711419175

ガラス基板の加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 大野 精市 ,  大野 精市
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-350424
公開番号(公開出願番号):特開2002-154846
出願日: 2000年11月17日
公開日(公表日): 2002年05月28日
要約:
【要約】【課題】光学素子の保持部材として用いられるV状溝を有する基板は温度変動による光学素子の光軸ずれを防止するため、熱膨張係数を任意に選定できることが望ましい。しかし従来のV状溝は結晶材料の異方性エッチングにより作製されているため、使用できる材料が限定されていた。【解決手段】本発明においては、ガラス基板1の表面7へレーザ光2を照射することによりV状溝6を形成する。その際、ガラス基板1の外側上方にレーザ光2を集光させ、その集光点4とガラス基板1の表面7との距離を変化させることによってV状溝の両側面のなす角度を変化させることができる。この角度の範囲は、30度から120度である。また本発明で用いるレーザ光は、パルス光であり、そのパルス幅は10ピコ秒以下であることが望ましい。
請求項(抜粋):
レーザ光照射によりガラス基板表面に凹部を形成するガラス基板の加工方法において、加工を施すガラス基板表面上方よりレーザ光を照射し、該レーザ光を前記ガラス基板の上方外側に集光させることを特徴とするガラス基板の加工方法。
IPC (2件):
C03C 23/00 ,  B23K 26/00
FI (3件):
C03C 23/00 Z ,  B23K 26/00 D ,  B23K 26/00 G
Fターム (6件):
4E068AD01 ,  4E068CA11 ,  4E068DB13 ,  4G059AA08 ,  4G059AB05 ,  4G059AC01
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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