特許

J-GLOBAL ID：200903072759761193

シリカ及びその製造方法

発明者： 森 寛 ,  加藤 波奈子 ,  吉森 孝幸 ,  山口 隆
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-188305
公開番号（公開出願番号）：特開2005-022895
出願日： 2003年06月30日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】最頻細孔直径が大きく、制御された細孔特性を有し、且つ耐熱性や耐水性等にも優れたシリカを提供する。【解決手段】以下の特性を備えるようにする。(a)細孔容積が0.6ml/g以上、1.6ml/g以下(b)比表面積が50〜600m2/g(c)最頻細孔直径(Dmax)が15nm以上(d)固体Si-NMRでのQ4/Q3値が3以上(e)非結晶質であること【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

以下の特性を備えたことを特徴とする、シリカ。 (a)細孔容積が0.6ml/g以上、1.6ml/g以下 (b)比表面積が50〜600m2/g (c)最頻細孔直径(Dmax)が15nm以上 (d)固体Si-NMRでのQ4/Q3値が3以上 (e)非結晶質であること

IPC (2件)：

C01B33/12 ,  C01B33/157

FI (2件)：

C01B33/12 Z ,  C01B33/157

Fターム (21件)：

4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072BB13 ,  4G072BB15 ,  4G072CC10 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072LL17 ,  4G072MM01 ,  4G072PP05 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072RR19 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT19 ,  4G072TT30

引用特許：

審査官引用 (3件)

• シリカゲル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-358568   出願人：三菱化学株式会社
• シリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-198224   出願人：三菱化学株式会社
• 表面処理したシリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-183153   出願人：日本シリカ工業株式会社