特許
J-GLOBAL ID：200903072807484164
データ補正機能を備えた露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松浦 孝
, 小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-112851
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300640
出願日： 2004年04月07日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 位置決めマークの検出段階において生じる誤差を補正することにより、描画領域の位置のずれ等を正確に修正し、高い精度でアライメント補正が可能な露光装置を提供する。【解決手段】 データ判断部が、基板上の実際のアライメント穴の位置を示す第1〜第4マーク位置データに補正が必要か否かを判断する(ステップS703)。さらに、補正が必要な非許容データの数に基づいて、マーク位置データが描画領域の修正に適用できるか否かを判断し(ステップS704)、非許容データが1つの場合、データ処理部が非許容データを補正し(ステップS705)、非許容データが2つ以上である場合、正確な描画が不可能である旨、ユーザに報知させるための警告ランプが点灯する(ステップS706)。データ処理部は、必要に応じて補正されたマーク位置データに基づいて、描画領域の修正を行なう(ステップS707)。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
所定のパターンを描画する領域である描画領域の位置と形状のずれを修正するため、前記描画領域の輪郭を定める複数のマークが表面に表された被描画体を描画する露光装置であって、
前記複数のマークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段と、
前記複数のマークの実際の位置をそれぞれ示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段と、
前記複数のマーク位置データそれぞれが、所定の誤差許容範囲を超えた非許容データであるか否かを判断するデータ許容性判断手段と、
前記複数のマーク位置データが、前記描画領域の位置と形状の修正に用いることができる修正可能データであるか否かを前記非許容データの数に基づいて判断するデータ適用性判断手段と、
前記非許容データを補正して補正マーク位置データとするデータ補正手段とを備え、
前記データ補正手段が、前記データ適用性判断手段が前記複数のマーク位置データが修正可能データであると判断した場合に、必要に応じて前記非許容データを補正して補正マーク位置データとし、
前記マーク位置データと前記補正マーク位置データとに基づき前記描画領域の位置と形状を修正して前記被描画体を描画することを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
G03F9/00
, G01B11/00
, G03F7/20
G03F9/00 A
, G01B11/00 C
, G03F7/20 505
2F065AA17
, 2F065AA20
, 2F065BB01
, 2F065BB27
, 2F065CC20
, 2F065EE00
, 2F065FF41
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065PP02
, 2F065PP12
, 2F065QQ25
, 2F065QQ26
, 2F065QQ27
, 2H097AA03
, 2H097AB05
, 2H097CA17
, 2H097KA03
, 2H097KA13
, 2H097KA20
, 2H097KA23
, 2H097KA29
, 2H097LA09
出願人引用 (1件)
-
描画装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-298393
出願人：旭光学工業株式会社
審査官引用 (3件)
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