特許
J-GLOBAL ID：200903073032700503
質量分析用基板及び質量分析用基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山下 穣平
, 志村 博
, 永井 道雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-162555
公開番号（公開出願番号）：特開2008-041648
出願日： 2007年06月20日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：
【課題】脱離過程がスムーズに起こり、且つエネルギー効率の高い質量分析用基板、及びこの質量分析用基板の製造方法を提供する。【解決手段】基体と、該基体上に形成された多孔質膜と、該多孔質膜上に形成された無機材料膜と、から構成されてなる質量分析用基板であって、該無機材料膜は、該基体に対して略垂直に形成された複数の凹部を有し、該凹部の径は、1nm以上1μm未満であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基体と、
該基体上に形成された多孔質膜と、
該多孔質膜上に形成された無機材料膜と、
から構成されてなる質量分析用基板であって、
該無機材料膜は、該基体に対して略垂直に形成された複数の凹部を有し、
該凹部の径は、1nm以上1μm未満であることを特徴とする質量分析用基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
5C038EE03
, 5C038EF16
, 5C038EF17
, 5C038GG07
, 5C038GH06
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
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