特許
J-GLOBAL ID：200903073051011182

スパッタ膜の製造方法およびスパッタ膜

発明者：
沢村 光治

沢村 光治 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-298217
公開番号（公開出願番号）：特開平9-143733
出願日： 1995年11月16日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：
【要約】【課題】 枚葉式スパッタ装置を用いながらもマスク成膜が容易であり、且つ、膜質の維持・管理も容易なスパッタ膜の製造方法を提供する。【解決手段】 搬入搬出室、スパッタ室、及び該搬入搬出室とスパッタ室との間で基板を搬送する搬送室を少なくとも備えた枚葉式スパッタ装置を用いたスパッタ膜の製造方法において、予め基板に成膜領域を制限するマスクを設け、該マスク付基板を搬入搬出室に投入して前記スパッタ室内でマスク成膜を行い、次いで該マスク付基板を搬入搬出室から取り出すことを特徴とするスパッタ膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
少なくとも一つの搬入搬出室、少なくとも一つのスパッタ室、及び該搬入搬出室とスパッタ室との間で基板を搬送する搬送室を少なくとも備えた枚葉式スパッタ装置を用いたスパッタ膜の製造方法において、予め基板に成膜領域を制限するマスクを設け、該マスク付基板を搬入搬出室に投入して前記スパッタ室内でマスク成膜を行い、次いで該マスク付基板を搬入搬出室から取り出すことを特徴とするスパッタ膜の製造方法。
IPC (8件)：
C23C 14/56 ,  C23C 14/04 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/66 ,  G11B 7/26 ,  H01B 13/00 503 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285
FI (8件)：
C23C 14/56 H ,  C23C 14/04 A ,  C23C 14/34 J ,  G11B 5/66 ,  G11B 7/26 ,  H01B 13/00 503 Z ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/285 S
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • エレクトロルミネッセンス表示素子の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-087669   出願人：日本電装株式会社
  • 特開平2-050962
  • 特開平2-050962
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