特許

J-GLOBAL ID：200903073226284233

検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法

発明者： 楠瀬 治彦
出願人/特許権者： レーザーテック株式会社
代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-257674
公開番号（公開出願番号）：特開2006-072147
出願日： 2004年09月03日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：

【課題】 透過像と反射像とに基づいて正確に異物検査を行うことができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。【解決手段】 本発明の一態様にかかる検査装置は、落射照明光源21と、落射照明光源21からの光を集光してフォトマスク33に出射するレンズ32と、レンズ32から出射した光のうち、フォトマスク33で反射した反射光をレンズ32を介して検出する反射側センサ44と、透過照明光源11と、透過照明光源11からの光を集光してフォトマスク33に出射するレンズ16と、レンズ16からフォトマスク33に出射した光のうち、フォトマスク33を透過した透過光をレンズ32を介して検出する透過側センサ43とを備え、落射照明光源からの光と透過照明光源からの光とがレンズ32の視野の一部の異なる位置を通過するものである。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

光を透過する透過パターンと光を遮光する遮光パターンとが設けられている試料の欠陥を検出して検査を行う検査装置であって、 透過照明光源と、 前記透過照明光源からの光を集光して前記試料に出射する透過照明光学系と、 透過像を撮像するため、前記透過照明光学系から前記試料に出射された光のうち前記試料を透過した透過光を検出する透過側検出器と、 落射照明光源と、 前記落射照明光源からの光を集光して前記試料に出射する落射照明光学系と、 反射像を撮像するため、前記落射照明光学系から前記試料に出射された光のうち前記試料で反射した反射光を検出する反射側検出器と、 欠陥のない箇所において、前記透過像と反射像との間の位置ずれ量を算出する位置ずれ量算出部と、 前記透過像又は前記反射像の一方の像において、前記試料に設けられたパターンの輪郭を抽出する輪郭抽出部と、 前記輪郭を抽出した像の前記輪郭における輝度の傾斜方向を算出する傾斜方向算出部と、 前記位置ずれ量と前記輝度の傾斜方向とに基づいて前記輪郭をずらした位置を求め、前記輪郭をずらした位置における前記輪郭を抽出した像の他方の像の輝度に基づいて欠陥判定を行う欠陥判定部とを備える検査装置。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F1/08 S ,  G01B11/30 A ,  G01N21/956 A ,  H01L21/30 502P

Fターム (35件)：

2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065BB22 ,  2F065CC18 ,  2F065FF42 ,  2F065GG01 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL12 ,  2F065LL30 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS13 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BB01 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051EA16 ,  2G051EC05 ,  2G051ED22 ,  2H095BD05 ,  2H095BD18 ,  2H095BD21 ,  2H095BD25 ,  2H095BD26 ,  2H095BD27

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭58-162038号公報
  
• マスク検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-308238   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (4件)

• 特開平3-249649
  
• 光学検査方法及び装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-528860   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-433783   出願人：株式会社ナノジオメトリ研究所
• 特開平4-363045