走査干渉分光を用いた複雑な表面構造のプロファイリング

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：恩田博宣 , 恩田誠
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-506943
公開番号（公開出願番号）：特表2006-519992
出願日： 2004年03月08日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：

試験対象物の第1の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分(例えば、フーリエ変換分)の少なくとも1つの振幅成分についての情報を含んでもよい。第2の側面では、モデルは固定された表面高さに対応するとともに、固定された表面高さとは異なる一連の特性によってパラメータ化されている。第3の側面では、比較は、走査干渉分光信号の系統的な影響を明確にすることを含む。

請求項（抜粋）：

方法であって、試験対象物の第1の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含み、前記複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化され、前記複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分の少なくとも1つの振幅成分についての情報を含む、方法。

IPC (3件)：

G01B 11/02 , G01B 11/06 , G01B 11/24

FI (3件)：

G01B11/02 G , G01B11/06 G , G01B11/24 D

Fターム (33件)：

2F065AA01 , 2F065AA24 , 2F065AA30 , 2F065AA53 , 2F065BB02 , 2F065BB17 , 2F065CC17 , 2F065CC31 , 2F065DD04 , 2F065FF49 , 2F065FF52 , 2F065HH04 , 2F065HH08 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL12 , 2F065LL28 , 2F065LL30 , 2F065LL33 , 2F065LL35 , 2F065LL46 , 2F065LL61 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065PP24 , 2F065QQ16 , 2F065QQ17 , 2F065QQ23 , 2F065QQ25 , 2F065QQ29 , 2F065QQ38 , 2F065QQ44 , 2F065RR09

引用特許：

審査官引用 (5件)

反射率スペクトル測定を用いた半導体の非破壊分析
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-544982 出願人：チャーカスキーアレクサンダーピー
特表平7-508345
半導体多層薄膜膜厚測定装置およびその測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-148839 出願人：日本分光株式会社, 三菱電機株式会社

全件表示

前のページに戻る