特許
J-GLOBAL ID:200903073374226277

排ガス浄化装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 真田 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-284350
公開番号(公開出願番号):特開2000-110554
出願日: 1998年10月06日
公開日(公表日): 2000年04月18日
要約:
【要約】【課題】 排ガス浄化装置に関し、排ガス浄化用触媒によるNOX 浄化能力を低下させずに、触媒のイオウ成分による被毒を抑制できるようにする。【解決手段】 希薄燃焼内燃機関の排気通路内に配設される排ガス浄化用触媒6を備え、排ガス浄化用触媒6が、第1多孔質担体に白金及びパラジウムのうちの少なくとも1種の第1貴金属及び第1吸蔵材を担持して構成されるNOX 吸蔵層6bと、NOX 吸蔵層6b上に被覆され、第1多孔質担体よりも比表面積が大で且つ孔径が小に構成された第2多孔質担体に第2貴金属及び第2吸蔵材を担持して構成されるSOX 吸蔵層6cとを有する。
請求項(抜粋):
希薄燃焼内燃機関の排気通路内に配設された排ガス浄化用触媒を備え、該排ガス浄化用触媒が、第1多孔質担体に白金及びパラジウムのうちの少なくとも1種の第1貴金属及び第1吸蔵材を担持して構成され、NOX を吸蔵しうるNOX 吸蔵層と、該NOX 吸蔵層上に被覆され、該第1多孔質担体よりも比表面積が大で且つ孔径が小に構成された第2多孔質担体に第2貴金属及び第2吸蔵材を担持して構成され、イオウ成分を吸蔵しうるSOX 吸蔵層とを有していることを特徴とする、排ガス浄化装置。
IPC (5件):
F01N 3/28 301 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/08 ZAB ,  F01N 3/10 ZAB ,  F01N 3/24 ZAB
FI (5件):
F01N 3/28 301 P ,  F01N 3/08 ZAB A ,  F01N 3/10 ZAB A ,  F01N 3/24 ZAB E ,  B01D 53/36 101 A
Fターム (72件):
3G091AA12 ,  3G091AA17 ,  3G091AA24 ,  3G091AA28 ,  3G091AB03 ,  3G091AB06 ,  3G091AB08 ,  3G091AB09 ,  3G091BA11 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091BA33 ,  3G091BA39 ,  3G091CA18 ,  3G091CB02 ,  3G091CB03 ,  3G091DC01 ,  3G091EA33 ,  3G091EA34 ,  3G091FB10 ,  3G091FB11 ,  3G091FB12 ,  3G091FC02 ,  3G091FC04 ,  3G091GA06 ,  3G091GB01X ,  3G091GB01Y ,  3G091GB02Y ,  3G091GB03Y ,  3G091GB05W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB09X ,  3G091GB10X ,  3G091GB16X ,  3G091HA08 ,  3G091HA20 ,  3G091HA36 ,  3G091HA38 ,  3G091HA47 ,  4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048BA01Y ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA11Y ,  4D048BA14Y ,  4D048BA15X ,  4D048BA16Y ,  4D048BA19X ,  4D048BA28Y ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA39X ,  4D048BB02 ,  4D048BB17 ,  4D048CA01 ,  4D048CC32 ,  4D048CC36 ,  4D048CC46 ,  4D048CC47 ,  4D048DA01 ,  4D048DA02 ,  4D048DA08 ,  4D048EA04
引用特許:
出願人引用 (7件)
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