特許
J-GLOBAL ID：200903073383363333

薄膜パターン形成用スタンプ

発明者：
服部 秀志

服部 秀志 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-231511
公開番号（公開出願番号）：特開2003-039399
出願日： 2001年07月31日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、マイクロ・コンタクトプリンティングに適さないような場合であっても、フォトリソグラフィ法を用いることなく精細な薄膜パターンを形成することができる薄膜形成用スタンプを提供することを主目的とするものである。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、被転写体と接触して被転写体上に薄膜パターン形成用塗工液を転写する凸部と、上記凸部を支持する支持部とを有する凸版形状を有し、上記凸部表面は、重合性樹脂または金属酸化物からなる多孔質体であって、平均径が10nm以上1μm以下の微細孔を有する多孔質体により形成されていることを特徴とする薄膜パターン形成用スタンプを提供する。
請求項（抜粋）：
被転写体と接触して被転写体上に薄膜パターン形成用塗工液を転写する凸部と、前記凸部を支持する支持部とを有する凸版形状を有し、前記凸部表面は、重合性樹脂または金属酸化物からなる多孔質体であって、平均径が10nm以上1μm以下の微細孔を有する多孔質体により形成されていることを特徴とする薄膜パターン形成用スタンプ。
IPC (4件)：
B82B 3/00 ,  B01J 19/00 ,  B05C 1/02 104 ,  B05D 1/28
FI (4件)：
B82B 3/00 ,  B01J 19/00 K ,  B05C 1/02 104 ,  B05D 1/28
Fターム (28件)：
4D075AC42 ,  4D075CA47 ,  4D075CB11 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB33 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4F040AA02 ,  4F040AA12 ,  4F040AA14 ,  4F040AB13 ,  4F040AC01 ,  4F040AC09 ,  4F040BA04 ,  4F040CA01 ,  4F040CA03 ,  4G075AA24 ,  4G075BC10 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EE23 ,  4G075FA05 ,  4G075FA12 ,  4G075FA14 ,  4G075FB04 ,  4G075FB12
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (10件)
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