特許
J-GLOBAL ID:200903073391528147

フッ化物コート膜形成処理液およびフッ化物コート膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-201443
公開番号(公開出願番号):特開2008-266767
出願日: 2007年08月02日
公開日(公表日): 2008年11月06日
要約:
【課題】磁石への絶縁膜形成方法において、塗布膜の不均一化,熱処理工程における長時間化,高温化等の原因により、十分な磁気特性向上を図ることが困難であるという問題を改善する方法を提供する。【解決手段】磁性粉体、磁性金属板、又は磁性体金属板ブロックのいずれかである磁性体に対し、アルコールを主成分とする溶媒と、前記溶媒中に分散した希土類又はアルカリ土類金属のフッ化物とで構成され、X線回折で検出されるピークの少なくとも1つは1度よりも大きい半値幅を有する処理液を塗布する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
アルコールを主成分とする溶媒と、 前記溶媒中に分散した希土類又はアルカリ土類金属のフッ化物と、で構成され、 X線回折で検出されるピークの少なくとも1つは、1度よりも大きい半値幅を有する処理液。
IPC (2件):
C23C 26/00 ,  H01F 1/00
FI (2件):
C23C26/00 C ,  H01F1/00 T
Fターム (9件):
4K044AA02 ,  4K044AA06 ,  4K044AB01 ,  4K044AB02 ,  4K044BA20 ,  4K044BB01 ,  4K044BC14 ,  4K044CA53 ,  5E040BC05
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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