特許
J-GLOBAL ID：200903073403684182

マイクロ波プラズマ処理装置、誘電体窓の製造方法およびマイクロ波プラズマ処理方法

発明者：
堀口 貴弘

堀口 貴弘 について

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大見 忠弘

大見 忠弘 について

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平山 昌樹

平山 昌樹 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について

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国立大学法人東北大学

国立大学法人東北大学 について


代理人 (3件)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-268713
公開番号（公開出願番号）：特開2008-091489
出願日： 2006年09月29日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：
【課題】ガスの流速を抑えるマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】マイクロ波プラズマ処理装置100は、スロットアンテナ30を介してマイクロ波を透過する複数の誘電体パーツ310から構成された誘電体窓と、梁26の下面に固定された複数のガスノズル27と、所定のガスを供給するガス供給部と、誘電体窓を透過したマイクロ波により所定のガスをプラズマ化して被処理体を処理する処理室Uとを備えている。各誘電体パーツ31は、第1の気孔率を有する第1のポーラス材31Phと第1のポーラス材31Phに連結し、第1の気孔率より低い第2の気孔率を有する第2のポーラス材31Plと、を含んで構成される。ガス供給部は、第1のポーラス材31Phを介して第2のポーラス材31Plからアルゴンガスを処理室内Uに導入し、ガスノズル27からシランガスを処理室内Uに導入する。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
マイクロ波を伝播させるスロットアンテナと、前記スロットアンテナを伝播したマイクロ波を透過する誘電体窓と、所定のガスを供給するガス供給部と、前記誘電体窓を透過したマイクロ波により前記所定のガスをプラズマ化して被処理体を処理する処理室と、を備えたマイクロ波プラズマ処理装置であって、 前記誘電体窓は、 第1の気孔率を有する第1の多孔質体と、前記第1の多孔質体に連結し、前記第1の気孔率より低い第2の気孔率を有する第2の多孔質体と、を含み、 前記ガス供給部は、 前記所定のガスを前記第1の多孔質体を介して前記第2の多孔質体から前記処理室内に導入するマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/306
FI (4件)：
H01L21/205 ,  H05H1/46 B ,  C23C16/455 ,  H01L21/302 101D
Fターム (27件)：
4K030AA06 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030CA06 ,  4K030CA17 ,  4K030EA03 ,  4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030GA01 ,  4K030JA02 ,  4K030JA12 ,  4K030KA30 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB28 ,  5F004BC03 ,  5F004BD01 ,  5F045AA09 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045EF01 ,  5F045EH03 ,  5F045EH14
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • プラズマCVD装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-026468   出願人：ティーディーケイ株式会社
審査官引用 (2件)

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