特許
J-GLOBAL ID:200903046209183612
シャワープレート及びその製造方法、並びにそのシャワープレートを用いたプラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び電子装置の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
小堀 益
, 堤 隆人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-153563
公開番号(公開出願番号):特開2008-047869
出願日: 2007年06月11日
公開日(公表日): 2008年02月28日
要約:
【課題】プラズマの逆流の発生、若しくは縦孔部分でのプラズマ励起用ガスの着火をより完全に防止でき、効率の良いプラズマ励起が可能なシャワープレートを提供すること。【解決手段】プラズマ処理装置の処理室102に配置され、処理室102にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレート105において、プラズマ励起用ガスの放出経路となる縦孔112に、ガス流通方向に連通した気孔を有する多孔質ガス流通体114を装着した。多孔質ガス流通体114の連通した気孔によって形成されたガス流通経路における隘路の気孔径を10μm以下とした。【選択図】図4
請求項(抜粋):
プラズマ処理装置に配置され、前記プラズマ処理装置内にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレートにおいて、プラズマ励起用ガスの放出経路となる縦孔に、ガス流通方向に連通した気孔を有する多孔質ガス流通体を装着し、前記多孔質ガス流通体の連通した気孔によって形成されたガス流通経路における隘路の気孔径が10μm以下であるシャワープレート。
IPC (4件):
H01L 21/31
, H01L 21/306
, C23C 16/455
, C04B 38/00
FI (4件):
H01L21/31 C
, H01L21/302 101L
, C23C16/455
, C04B38/00 303Z
Fターム (18件):
4G019FA13
, 4G019FA15
, 4K030EA04
, 4K030FA01
, 4K030KA46
, 5F004AA16
, 5F004BA06
, 5F004BB14
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F045AA09
, 5F045AB32
, 5F045AB33
, 5F045AB34
, 5F045BB08
, 5F045EF05
, 5F045EJ04
, 5F045EJ05
引用特許:
出願人引用 (4件)
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-240876
出願人:東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
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シャワープレート、プラズマ処理装置、及び、製品の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-434769
出願人:大見忠弘
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-197227
出願人:大見忠弘, 東京エレクトロン株式会社
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国際公開第06/112392号パンフレット
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審査官引用 (13件)
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プラズマ処理装置のガスインレット部材
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-151214
出願人:東芝セラミックス株式会社
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-197227
出願人:大見忠弘, 東京エレクトロン株式会社
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シャワープレート
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-230943
出願人:東芝セラミックス株式会社
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