特許
J-GLOBAL ID:200903073426277339
室の流出物のモニターシステム、および吸着分光測定からなる半導体加工システム、およびその使用方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-267344
公開番号(公開出願番号):特開平9-203707
出願日: 1996年10月08日
公開日(公表日): 1997年08月05日
要約:
【要約】【課題】新規な室内流出物のモニターシステムの提供。【解決手段】当システムは、排気ラインと結合した室を備える。排気ラインは試料区域を有し、すべての気相流出物が通過する。当システムは、微量の気相流出物を検出する吸着分光測定システムを具備する。この測定システムは、光源と、試料区域と、光学的に連通する主検出器と、光透過窓とを備えており、試料区域を通過して光透過窓を出る光ビームに、主検出器が応答する。当システムは、半導体加工装置内の微量の流出気体不純物の検出に使用する。
請求項(抜粋):
下記の(a)(b)からなる室内流出物のモニターシステム。(a) 室と接続された排気ラインを備えており、前記排気ラインは、実質的にすべての流出物が通過する試料区域を含む、(b) 光源と、1つまたは複数の光透過窓を介して試料区域と光学的に連通する主要検出器とからなり、光源が、1つまたは複数の光透過窓を介して試料区域に光ビームを指向し、光ビームが、試料区域を通過し、1つまたは複数の光透過窓を通って試料区域を出て、主要検出器が、試料区域を出る光ビームに応答する、気相の微量物を検出するための吸着分光測定システム、
IPC (2件):
FI (2件):
G01N 21/35 Z
, H01L 21/02 Z
引用特許:
審査官引用 (10件)
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水素センサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-008936
出願人:日本板硝子株式会社
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特表平3-505782
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特開昭62-232535
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半導体製造用材料ガス検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-237242
出願人:新コスモス電機株式会社
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特開昭63-008995
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特開昭63-021832
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流体の密度測定装置および半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-045774
出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-059324
出願人:日本電信電話株式会社
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特開昭49-107792
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試料セル
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-115217
出願人:日本無線株式会社
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