特許
J-GLOBAL ID:200903073511110338
帯電装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-072726
公開番号(公開出願番号):特開2004-279846
出願日: 2003年03月17日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】帯電工程時に生成されるオゾンや窒化酸化物を軽減するとともに、非接触式の帯電ローラにおける像担持体とのギャップが高精度に設定できる、高画像品質の帯電装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置を提供することにある。【解決手段】この発明の帯電装置は、像担持体20に対してギャップGを設けて対向するローラ部22aを有する帯電ローラ22と、ギャップGへの空気の流入を制限する封止部材28、30と、ギャップGを維持した状態で封止部材28、30を像担持体20に向けて加圧する加圧部材25とを備えた。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
像担持体に対してギャップを設けて対向するローラ部を有する帯電ローラと、
前記ギャップへの空気の流入を制限する封止部材と、
前記ギャップを維持した状態で前記封止部材を前記像担持体に向けて加圧する加圧部材とを備えたことを特徴とする帯電装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (19件):
2H200FA07
, 2H200GA23
, 2H200GA34
, 2H200GA44
, 2H200GB41
, 2H200HA03
, 2H200HA28
, 2H200HB12
, 2H200HB20
, 2H200HB22
, 2H200HB45
, 2H200LA12
, 2H200LB26
, 2H200LB35
, 2H200LB37
, 2H200MA03
, 2H200MA04
, 2H200MA20
, 2H200MC04
引用特許: