露光装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-191021
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347416
出願日： 1999年07月05日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】要求される解像度がそれぞれ異なるパターンが混在しても、高いスループットで基板に光学的パターンを転写できる露光装置を提供する。【解決手段】異なるデザインルールに応じてパターンが形成される基板を載置する基板ステージと、第1の解像度を有する第1の露光光学系と、前記第1の解像度とは異なる第2の解像度を有する第2の露光光学系と、前記基板ステージと前記第1の露光光学系と前記第2の露光光学系とを制御する制御部とを備える露光装置において、高解像度のステッパ方式と低解像度のミラープロジェクション方式、高解像度のステッパ方式と低解像度のステッパ方式、または高解像度のミラープロジェクション方式と低解像度のミラープロジェクション方式のいずれかにより、上記第1の露光光学系および第2の露光光学系を構成する。

請求項（抜粋）：

基板を載置する基板ステージと、第1の解像度を有する第1の露光光学系と、前記第1の解像度とは異なる第2の解像度を有する第2の露光光学系と、前記基板ステージと前記第1の露光光学系と前記第2の露光光学系とを制御する制御部と、を備え、前記第1の露光光学系および前記第2の露光光学系のそれぞれから、異なるデザインルールに基づく光学的なパターンをそれぞれのデザインルールに応じた異なる解像度で前記基板に投影させることを可能とする露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 501 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/20 501 , H01L 21/30 517

Fターム (7件)：

2H097AA05 , 2H097CA12 , 2H097CA17 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046DA12 , 5F046DB05

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平1-134919
特開平1-134919
特開昭64-073616

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