特許
J-GLOBAL ID：200903073705464882

発光体およびその製造方法

発明者：
谷 由加里

谷 由加里 について

, 
柴田 典義

柴田 典義 について

, 
ヴァーシン・アンドリュー・ブイ.

ヴァーシン・アンドリュー・ブイ. について

, 
サローネン・ジャルノ

サローネン・ジャルノ について

, 
レト・ベサ-ペッカ

レト・ベサ-ペッカ について


出願人/特許権者：
財団法人ファインセラミックスセンター

財団法人ファインセラミックスセンター について


代理人 (1件)： 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-048245
公開番号（公開出願番号）：特開2008-208283
出願日： 2007年02月28日
公開日（公表日）： 2008年09月11日
要約：
【課題】発光強度の高く発光スペクトル幅の広い発光体を提供する。【解決手段】多孔質シリコン600を準備する。準備された多孔質シリコン600に形成された細孔612内にカーボンクラスタ630を形成する。次いで、カーボンクラスタ630が形成された多孔質シリコン600のシリコン614を選択的に酸化する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
発光体製造方法であって、 (a)多孔質シリコンを準備する工程と、 (b)前記多孔質シリコンに形成された細孔内にカーボンクラスタを形成する工程と、 (c)前記カーボンクラスタが形成された前記多孔質シリコンのシリコンを選択的に酸化する工程と、 を備える、発光体製造方法。
IPC (2件)：
C09K 11/08 ,  C09K 11/65
FI (3件)：
C09K11/08 B ,  C09K11/65 ,  C09K11/08 G
Fターム (5件)：
4H001CC11 ,  4H001CF02 ,  4H001XA06 ,  4H001XA08 ,  4H001XA14
引用特許：
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示
引用文献：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM