特許
J-GLOBAL ID:200903073724179714
薄膜形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石井 和郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-076930
公開番号(公開出願番号):特開2001-259494
出願日: 2000年03月17日
公開日(公表日): 2001年09月25日
要約:
【要約】【課題】 超音波振動子によりソース材料溶液を霧化させた溶液微粒子を加熱された製膜用基板に吹き付け、金属硫化物または金属酸化物の薄膜を形成する方法において、膜厚が均一化された薄膜を形成する方法を提供する。【解決手段】 溶液供給容器と霧化容器とを、霧化容器内のソース材料溶液の液面が一定に保たれるように結合し、かつ前記溶液供給容器から霧化容器に供給されるソース材料溶液の供給速度を測定し、その供給速度が適正値となるように前記超音波振動子の出力またはキャリアガスの流量を制御しながら前記薄膜を形成する。
請求項(抜粋):
熱分解により金属酸化物または金属硫化物を生成する金属化合物の溶液を供給する溶液供給容器、前記溶液供給容器から供給される溶液を収容し、これを超音波振動子により霧化させる霧化容器、金属酸化物または金属硫化物の薄膜を形成しようとする基板を加熱状態に保持する支持台、および前記霧化された溶液の微粒子をキャリアガスにより前記基板に吹き付けるキャリアガス搬送手段を具備する装置を用い、前記微粒子中の金属化合物を前記基板上で熱分解させて基板上に金属酸化物または金属硫化物の薄膜を形成する薄膜形成方法であって、前記溶液供給容器と霧化容器とを、前記霧化容器内の溶液の液面が一定に保たれるように結合し、かつ前記溶液供給容器から霧化容器へ供給される溶液の供給速度を測定し、その供給速度が適正値となるように前記超音波振動子の出力を制御することを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (5件):
B05B 17/06
, B01J 19/00
, B05D 1/02
, B05D 3/02
, H01L 21/368
FI (5件):
B05B 17/06
, B01J 19/00 L
, B05D 1/02 Z
, B05D 3/02 Z
, H01L 21/368 Z
Fターム (43件):
4D074AA01
, 4D074BB05
, 4D074DD03
, 4D074DD09
, 4D074DD14
, 4D074DD17
, 4D074DD64
, 4D074DD65
, 4D075AA01
, 4D075AA82
, 4D075AA83
, 4D075AA87
, 4D075BB23Y
, 4D075BB28Z
, 4D075CA22
, 4D075CA48
, 4D075DA06
, 4D075DB01
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DC21
, 4D075DC24
, 4D075EA06
, 4D075EA07
, 4D075EC01
, 4D075EC08
, 4G075AA24
, 4G075BA05
, 4G075BC01
, 4G075BC02
, 4G075BD14
, 4G075CA02
, 4G075CA23
, 4G075CA80
, 4G075FB01
, 4G075FB11
, 5F053AA21
, 5F053AA48
, 5F053DD20
, 5F053HH05
, 5F053LL05
, 5F053RR01
, 5F053RR13
引用特許:
審査官引用 (7件)
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二酸化錫膜の製造方法および太陽電池
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-206575
出願人:松下電池工業株式会社
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化合物半導体膜の製造方法および太陽電池
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-241549
出願人:松下電池工業株式会社
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特開昭55-015652
-
特開昭53-041807
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気化供給装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-282746
出願人:日本パイオニクス株式会社
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特開昭55-015652
-
特開昭53-041807
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