過酸化水素水及び次亜ハロゲン化物の製造用電解槽及び方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：森浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-085533
公開番号（公開出願番号）：特開2002-285369
出願日： 2001年03月23日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【課題】過酸化水素と次亜ハロゲン化物イオンを同時に生成させ、特に海水処理に望ましい薬剤を提供する。【解決手段】ハロゲン化物イオンを酸化し得る不溶性陽極を収容する陽極室、及び酸素含有ガスを酸化して過酸化水素を生成し得るガス拡散陰極を収容する陰極室を少なくとも1枚の隔膜で区画した電解槽の陽極室にハロゲン化物イオン含有水を、陰極室に酸素含有ガス及び電解液を供給使用ながら電解し、陽極室で次亜ハロゲン化物及び陰極室で過酸化水素をそれぞれ生成させることを特徴とする過酸化水素水及び次亜ハロゲン化物の製造用電解槽。従来と異なり、電極物質や電解条件を適宜設定して同時に過酸化水素及び次亜ハロゲン化物を生成することにより電力コスト及びこれに付随するコストを大幅に削減できる。

請求項（抜粋）：

ハロゲン化物イオンを酸化し得る不溶性陽極を収容する陽極室、及び酸素含有ガスを酸化して過酸化水素を生成し得るガス拡散陰極を収容する陰極室を少なくとも1枚の隔膜で区画した電解槽の陽極室にハロゲン化物イオン含有水を、陰極室に酸素含有ガス及び電解液を供給しながら電解し、陽極室で次亜ハロゲン化物及び陰極室で過酸化水素をそれぞれ生成させることを特徴とする過酸化水素水及び次亜ハロゲン化物の製造用電解槽。

IPC (11件)：

C25B 1/30 , C02F 1/46 ZAB , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 , C02F 1/50 550 , C02F 1/50 560 , C02F 1/72 , C02F 1/76 , C25B 1/26 , C25B 9/00

FI (12件)：

C25B 1/30 , C02F 1/46 ZAB Z , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 531 P , C02F 1/50 531 Q , C02F 1/50 550 D , C02F 1/50 560 F , C02F 1/72 Z , C02F 1/76 A , C02F 1/76 Z , C25B 1/26 C , C25B 9/00 C

Fターム (40件)：

4D050AA04 , 4D050AA13 , 4D050AA15 , 4D050AB03 , 4D050AB06 , 4D050AB07 , 4D050BB03 , 4D050BB06 , 4D050BB09 , 4D050BD04 , 4D061DA04 , 4D061DB09 , 4D061DB10 , 4D061EA02 , 4D061EB01 , 4D061EB13 , 4D061EB17 , 4D061EB19 , 4D061EB28 , 4D061EB29 , 4D061EB30 , 4D061EB31 , 4D061EB33 , 4D061EB35 , 4D061EB39 , 4D061FA06 , 4D061FA07 , 4D061FA13 , 4D061FA14 , 4D061FA15 , 4D061GC02 , 4D061GC12 , 4K021AA01 , 4K021AA03 , 4K021AB07 , 4K021AB15 , 4K021BA03 , 4K021DB01 , 4K021DB31 , 4K021DC01

引用特許：

審査官引用 (5件)

水処理方法及び水処理用装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-067878 出願人：ペルメレック電極株式会社
過酸化水素製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-321372 出願人：ペルメレック電極株式会社, 株式会社片山化学工業研究所
特開昭53-039996

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