特許
J-GLOBAL ID：200903073780009759

ガス分散性が改良された破屑軽減システム

発明者：
デラ,ギュンター ハンス

デラ,ギュンター ハンス について

, 
クリュッケン,トーマス

クリュッケン,トーマス について


出願人/特許権者：
コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ

コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ について


代理人 (4件)： 伊東 忠彦 ,  大貫 進介 ,  伊東 忠重 ,  松本 晃一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-516460
公開番号（公開出願番号）：特表2008-547193
出願日： 2006年06月06日
公開日（公表日）： 2008年12月25日
要約：
本発明は、特に、EUV放射線および/または軟X線用の放射線ユニットに使用される破屑軽減システムに関する。本破屑軽減システムは、薄膜トラップ(11)を有し、この薄膜トラップは、放射線の直線通過が可能となるいくつかの経路と、バッファガス(7)を前記薄膜トラップにガス供給するための一つまたは複数の供給配管(5)とを有する。薄膜トラップは、前記経路のいくつかにまで広がる、少なくとも一つの内部の空間(14)を有し、前記供給配管は、前記空間に通じている。本発明の破屑軽減システムでは、効果的な破屑軽減が可能である。
請求項（抜粋）：
特に薄膜トラップのような破屑軽減ユニットを有する破屑軽減システムであって、 前記破屑軽減ユニットは、放射線の直線通過が可能となるいくつかの経路と、バッファガスを前記破屑軽減ユニットにガス供給するための一つまたは複数の供給配管とを有し、 前記破屑軽減ユニットは、前記経路のいくつかにまで広がる、少なくとも一つの内部の空間を有し、 前記供給配管は、前記空間に通じている、破屑軽減システム。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H05G 2/00
FI (2件)：
H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K
Fターム (6件)：
4C092AA04 ,  4C092AB19 ,  4C092AC09 ,  4C092BD01 ,  4C092BD18 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 国際公開第WO03/034153A1号パンフレット
  • 米国特許第6,586,757B2号明細書
審査官引用 (3件)

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