特許
J-GLOBAL ID：200903064895656473

リソグラフィ機器、放射システム、汚染物質トラップ、デバイスの製造方法、及び汚染物質トラップ内で汚染物質を捕らえる方法

発明者：
レヴィヌス ピーター ベイカー

レヴィヌス ピーター ベイカー について

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ヴァディム イェブゲンイェヴィチ バニーネ

ヴァディム イェブゲンイェヴィチ バニーネ について

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コーネリス ペトルス アンドレアス マリー ルイユクス

コーネリス ペトルス アンドレアス マリー ルイユクス について

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フランク ジェローン ピーター シュールマンス

フランク ジェローン ピーター シュールマンス について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  横田 裕弘 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-233742
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032980
出願日： 2005年07月14日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】放射ビームを生成する供給源、この放射ビームの経路内に配置された汚染物質トラップ、及びこの供給源によって生成された放射ビームを調整するように構成された照明システムを備える放射システムと、パターン化装置を支持する支持部とを含むリソグラフィ機器を提供すること。【解決手段】このパターン化装置は、調整された放射ビームの横断面にパターンを付与するように働く。この機器は、基板を保持する基板テーブル、及びこの基板の目標部分にパターン化された放射ビームを投影する投影システムも含む。汚染物質トラップは、放射ビームの伝播方向にほぼ平行に配置されるチャネルを形成する複数のフォイルを含む。このトラップは、このトラップのチャネルの少なくとも1つにガスを注入するように配置されたガス供給システムを備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
リソグラフィ機器であって、 放射ビームを生成する供給源、前記放射ビームの経路内に配置された汚染物質トラップ、及び前記供給源によって生成された前記放射ビームを調整するように構成された照明システムを備える放射システムと、 前記調整された放射ビームの横断面にパターンを付与するように働くパターン化装置を支持する支持部と、 基板を保持する基板テーブルと、 前記基板の目標部分に前記パターン化された放射ビームを投影する投影システムとを備え、 前記汚染物質トラップは、前記放射ビームの伝播方向にほぼ平行に配置されるチャネルを形成する複数のフォイルを備え、前記汚染物質トラップは、前記汚染物質トラップの前記チャネルの少なくとも1つにガスを注入するように構成されたガス供給システムを備える、リソグラフィ機器。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G21K 1/00 ,  G21K 5/02
FI (5件)：
H01L21/30 503G ,  G21K1/00 X ,  G21K5/02 X ,  H01L21/30 527 ,  H01L21/30 531S
Fターム (5件)：
5F046AA28 ,  5F046CA04 ,  5F046CB22 ,  5F046GA09 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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