リソグラフィ機器、放射システム、汚染物質トラップ、デバイスの製造方法、及び汚染物質トラップ内で汚染物質を捕らえる方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 横田裕弘 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-233742
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032980
出願日： 2005年07月14日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】放射ビームを生成する供給源、この放射ビームの経路内に配置された汚染物質トラップ、及びこの供給源によって生成された放射ビームを調整するように構成された照明システムを備える放射システムと、パターン化装置を支持する支持部とを含むリソグラフィ機器を提供すること。【解決手段】このパターン化装置は、調整された放射ビームの横断面にパターンを付与するように働く。この機器は、基板を保持する基板テーブル、及びこの基板の目標部分にパターン化された放射ビームを投影する投影システムも含む。汚染物質トラップは、放射ビームの伝播方向にほぼ平行に配置されるチャネルを形成する複数のフォイルを含む。このトラップは、このトラップのチャネルの少なくとも1つにガスを注入するように配置されたガス供給システムを備える。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

リソグラフィ機器であって、放射ビームを生成する供給源、前記放射ビームの経路内に配置された汚染物質トラップ、及び前記供給源によって生成された前記放射ビームを調整するように構成された照明システムを備える放射システムと、前記調整された放射ビームの横断面にパターンを付与するように働くパターン化装置を支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、前記基板の目標部分に前記パターン化された放射ビームを投影する投影システムとを備え、前記汚染物質トラップは、前記放射ビームの伝播方向にほぼ平行に配置されるチャネルを形成する複数のフォイルを備え、前記汚染物質トラップは、前記汚染物質トラップの前記チャネルの少なくとも1つにガスを注入するように構成されたガス供給システムを備える、リソグラフィ機器。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G21K 1/00 , G21K 5/02

FI (5件)：

H01L21/30 503G , G21K1/00 X , G21K5/02 X , H01L21/30 527 , H01L21/30 531S

Fターム (5件)：

5F046AA28 , 5F046CA04 , 5F046CB22 , 5F046GA09 , 5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

活性ガス及びバッファガス制御を有するプラズマ集束光源
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-502807 出願人：サイマー,インコーポレイテッド
極端紫外光発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-137949 出願人：ウシオ電機株式会社
放射源と放射源からの放射を処理する処理機構とを含む遠紫外線リソグラフィに適した装置、ならびに放射源から放射された望ましくない原子および微小粒子を抑制するためのフィルタ
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-532779 出願人：スティクティング・ヴーア・デ・テクニシェ・ウェッテンシャペン

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