特許
J-GLOBAL ID：200903073970965206

高出力ArFエキシマレーザー用合成石英ガラス部材およびその製造方法

発明者：
周 忠華

周 忠華 について

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新保 優

新保 優 について

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生野 浩人

生野 浩人 について


出願人/特許権者：
東芝セラミックス株式会社

東芝セラミックス株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-368360
公開番号（公開出願番号）：特開2001-180963
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
要約：
【要約】【課題】この発明は、VAD法で製造された合成石英ガラスが高純度であることと、OH基濃度およびH2 濃度が低いけれども均質であることに着目して、これに別途OH基およびH2 を添加して高純度でしかもOH基およびH2 濃度が均一でしかも高い合成石英とし、これによって高出力ArFエキシマレーザーに耐えるVAD法による合成石英ガラスを得ようとするものである。【解決手段】VAD法で製造された高純度合成石英ガラスであって、合成石英ガラス中のOH基濃度が500〜1500ppm、H2 濃度が1×1017〜1019molecule/cm3 である高出力ArFエキシマレーザー用合成石英ガラス。
請求項（抜粋）：
VAD法で製造された高純度合成石英ガラスであって、合成石英ガラス中のOH基濃度が500〜1500ppm、H2 濃度が1×1017〜1019molecule/cm3 である高出力ArFエキシマレーザー用合成石英ガラス。
IPC (4件)：
C03C 3/06 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  H01S 3/223
FI (5件)：
C03C 3/06 ,  C03B 8/04 P ,  C03B 8/04 L ,  C03B 20/00 F ,  H01S 3/223 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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