光学式基板検査装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-074575
公開番号（公開出願番号）：特開平11-083753
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】検査時間の増大を招くことなく、光学解像特性を向上させることができ、将来の1GビットDRAMの回路パターンの欠陥検査にも対応する。【解決手段】検査対象基板に形成されたパターンの欠陥や基板上に付着した異物を検査する光学式基板検査装置において、基板に光を照射するための光束を作り出すレーザ光源401と、レーザ光源401からの1本の光束を複数本に分割して多光束を作り出すマルチビーム発生器101と、分割した多光束を基板上で走査するスキャナミラー105,106と、基板上に多光束がそれぞれ独立に焦点を結ぶように働き、かつ多光束照射による基板からの反射光を導く光学系と、光学系により導かれた基板からの多光束の間隔と一致した間隔でアパーチャを配置し、各々の光束を制限するマルチピンホール111と、マルチピンホール111からの各光束の光量の変化をそれぞれ検出する検出器群112とを備えた。

請求項（抜粋）：

検査対象基板に光を照射し、該基板に形成されたパターンの欠陥や該基板上に付着した異物を検査する光学式基板検査装置において、前記基板に光を照射するための光束を作り出すレーザ光源と、このレーザ光源からの1本の光束を複数本に分割し多光束を作り出す光束分割手段と、前記分割した多光束を前記基板上で走査させる多光束走査手段と、前記基板上に多光束がそれぞれ独立に焦点を結ぶように働き、かつ多光束照射による前記基板からの反射又は透過光を導く光学手段と、この光学手段により導かれた多光束の光量の変化をそれぞれ検出する光検出手段とを具備してなることを特徴とする光学式基板検査装置。

IPC (6件)：

G01N 21/88 , G01B 11/30 , G01N 21/84 , G03F 1/08 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (7件)：

G01N 21/88 E , G01B 11/30 C , G01N 21/84 E , G03F 1/08 S , H01L 21/66 J , H01L 21/66 Z , H01L 21/30 502 V

引用特許：

審査官引用 (8件)

面状態検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-241395 出願人：キヤノン株式会社
特開昭50-147286
特開昭60-157008

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