特許
J-GLOBAL ID：200903074112657559
フォトレジスト現像廃液の処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 進二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-024458
公開番号（公開出願番号）：特開平10-202294
出願日： 1997年01月24日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：
【要約】【課題】 少なくとも電気透析及び/又は電解と得られる脱塩液の生物処理を行うことにより、フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液の低コスト且つ効果的な処理方法を提供する。【解決手段】 フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液又はそれに由来する処理液(例えば、陰イオン交換体接触処理液、中和・フォトレジスト除去処理液、又は中和・フォトレジスト除去+陰イオン交換体接触処理液)を電気透析及び/又は電解し、得られる脱塩液を、必要に応じてフォトレジスト除去処理(例えば、陰イオン交換体接触処理、中和・フォトレジスト除去処理、中和・フォトレジスト除去+陰イオン交換体接触処理、又は酸化処理)し、また、必要に応じてpH調整して、活性汚泥法等により生物処理し、テトラアルキルアンモニウムイオン等を分解し、TOCを低減する。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液を処理するに当たって、前記フォトレジスト現像廃液又は前記フォトレジスト現像廃液に由来する処理液を電気透析及び電解の少なくとも一方の方法で処理してテトラアルキルアンモニウムイオンの濃縮液と脱塩液とに分離する工程、及び前記脱塩液又は前記脱塩液に由来する処理液を、必要に応じてpH調整し、生物処理を行う工程とを含むことを特徴とするフォトレジスト現像廃液の処理方法。
IPC (5件)：
C02F 9/00 501
, C02F 9/00 502
, C02F 1/461
, C02F 1/469
, C02F 3/12
C02F 9/00 501
, C02F 9/00 502 L
, C02F 3/12 N
, C02F 1/46 101 C
, C02F 1/46 103
