特許
J-GLOBAL ID：200903074200838806

特徴点位置決定方法及び装置

発明者：
加藤 政美

加藤 政美 について

, 
鈴木 崇士

鈴木 崇士 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-051117
公開番号（公開出願番号）：特開2009-211177
出願日： 2008年02月29日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：
【課題】簡単な処理で複数の特徴点位置を高精度に決定可能とする。【解決手段】画像中の特徴点の位置を決定する特徴点位置決定方法では、画像中の複数の特徴点の位置を予め設定された探索範囲で第1の探索を行い、探索された複数の特徴点の幾何学的な配置関係に基づいて当該複数の特徴点の位置を補正し、補正された各特徴点の位置に基づいて探索範囲を設定して当該探索範囲で各特徴点の位置を探索する第2の探索を行う。そして、第2の探索で探索された各特徴点について位置の信頼性を判定することにより、上記補正された位置と、上記第2の探索で探索された位置とのいずれかを選択する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
画像中の複数の特徴点の位置を予め設定された探索範囲で探索する第1探索工程と、 前記第1探索工程で探索した前記複数の特徴点の幾何学的な配置関係に基づいて当該複数の特徴点の位置を補正する位置補正工程と、 前記位置補正工程で補正した各特徴点の位置に基づいて探索範囲を設定し、当該探索範囲で各特徴点の位置を探索する第2探索工程と、 前記第2探索工程で探索された各特徴点について位置の信頼性を判定することにより、前記位置補正工程で補正された位置と、前記第2探索工程で探索された位置との一方を決定すべき特徴点の位置として選択する選択工程とを備えることを特徴とする特徴点位置決定方法。
IPC (3件)：
G06T 1/00 ,  G06T 7/00 ,  G01B 11/00
FI (3件)：
G06T1/00 340A ,  G06T7/00 300F ,  G01B11/00 H
Fターム (34件)：
2F065AA11 ,  2F065CC16 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF26 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ06 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ38 ,  2F065RR09 ,  2F065UU05 ,  5B057AA19 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CC03 ,  5B057CH08 ,  5B057DA06 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC03 ,  5B057DC05 ,  5B057DC36 ,  5L096EA14 ,  5L096EA35 ,  5L096FA09 ,  5L096FA60 ,  5L096FA66 ,  5L096JA09 ,  5L096JA13
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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