特許
J-GLOBAL ID:200903074255901485
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三好 秀和 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-355854
公開番号(公開出願番号):特開2001-174986
出願日: 1999年12月15日
公開日(公表日): 2001年06月29日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 感光性エレメント、レジストパターン、プリント配線板の製造法を提供する。【解決手段】 (A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物において、前記(B)成分が(b1)ビスフェノールA系(メタ)アクリレート化合物、(b2)ポリプロピレングリコールジアクリレート及び(b3)フェノキシポリエチレンオキシ(メタ)アクリレート系化合物を必須成分とする感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥、積層してなる感光性エレメントを、回路形成用基板上に密着するようにして積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを特徴とするレジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンの製造された回路形成用基板をエッチング又はめっきすることを特徴とするプリント配線板の製造法。
請求項(抜粋):
(A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物において、前記(B)成分が(b1)ビスフェノールA系(メタ)アクリレート化合物、(b2)ポリプロピレングリコールジアクリレート及び(b3)フェノキシポリエチレンオキシ(メタ)アクリレート系化合物を必須成分とする感光性樹脂組成物。
IPC (7件):
G03F 7/004 512
, C08F220/30
, C08L 33/14
, G03F 7/027 501
, H05K 3/00
, H05K 3/06
, H05K 3/18
FI (7件):
G03F 7/004 512
, C08F220/30
, C08L 33/14
, G03F 7/027 501
, H05K 3/00 F
, H05K 3/06 H
, H05K 3/18 D
引用特許:
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