特許
J-GLOBAL ID:200903074370353343

プラズマアークの発生装置及び発生方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 加藤 久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-097232
公開番号(公開出願番号):特開2002-299099
出願日: 2001年03月29日
公開日(公表日): 2002年10月11日
要約:
【要約】【課題】 プラズマアーク着地点を任意に設定できるようにして陽極の溶損を抑えフレームを安定化できるプラズマアークの発生装置及びその発生方法を提供する。【解決手段】 本発明は、複数のガスの供給路1a及びチャンバ1bを形成した本体1と、チャンバ1bの中に配置した陰極2と、この陰極2と同軸上に配置された導電性材料を使用した陽極3と、陽極3の終端の前方に向けて粉末またはワイヤの溶射材料を供給する供給管4とから構成され、内部流路3aはチャンバ1bに臨む陰極側から終端側に向けて一様な角度で先細りする流路断面のテーパ流路として形成されている。着地直前のプラズマアーク5はガスの旋回流によって内部流路3a中心で収束され、陽極3の終端側でもガスの旋回力が大きく減衰することなく保持されるので、陽極3の終端付近で内部流路3aの壁面に環状に安定して着地する。
請求項(抜粋):
電極内部の断面中心軸まわりにプラズマガスが旋回流れとして供給される陽極と前記陽極の断面中心軸におけるガス供給側の延長上に配置された陰極とに電圧印加することによって前記プラズマガスを媒体としてプラズマアークを発生させる装置において、前記陽極の内部形状を、流路断面積が陽極の長さ方向の一部又は全てにわたって陰極から遠ざかるにしたがい縮小する形状としたことを特徴とするプラズマアークの発生装置。
IPC (4件):
H05H 1/42 ,  B01J 19/08 ,  C23C 4/00 ,  H05H 1/34
FI (4件):
H05H 1/42 ,  B01J 19/08 H ,  C23C 4/00 ,  H05H 1/34
Fターム (18件):
4G075AA24 ,  4G075BC01 ,  4G075CA47 ,  4G075EB24 ,  4G075EB42 ,  4G075EC01 ,  4G075EC21 ,  4G075EE02 ,  4K031AA02 ,  4K031AB02 ,  4K031AB08 ,  4K031AB09 ,  4K031CB08 ,  4K031CB14 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA04 ,  4K031EA01
引用特許:
出願人引用 (15件)
  • 特開昭63-154272
  • プラズマノズル
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-206589   出願人:アグロダインホックスパヌングステクニックゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
  • プラズマ切断トーチにおける電極棒
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-026070   出願人:昭和技研株式会社
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審査官引用 (22件)
  • プラズマ被膜表面仕上げの方法及び装置
    公報種別:公表公報   出願番号:特願2001-535626   出願人:プラズマトリートゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング, フラウンホーファー-ゲゼルシャフトツァーフェルデルングデアアンゲヴァンテンフォーシャングアインゲトラーゲナーフェアアイン
  • 特開昭63-250097
  • プラズマトーチおよびプラズマ溶射装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-122440   出願人:永田鉄工株式会社
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