特許
J-GLOBAL ID：200903074422815901
浮遊カーボンナノチューブ組成物、その製造方法および使用方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
青山 葆
, 山本 宗雄
, 後藤 裕子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-560944
公開番号（公開出願番号）：特表2005-530667
出願日： 2003年01月15日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：
本発明は、一部分、浮遊カーボンナノチューブ安定性組成物、その製造方法およびその使用方法に関する。本発明は、流体中に浮遊している高濃度および低濃度の高分散カーボンナノチューブの製造方法を提供する。上記カーボンナノチューブ浮遊物は、強度、重量、重量に対する強度の比、電気的および熱的多用性、放射線遮蔽性、静電容量、誘電性、選択的イオン流れ、触媒活性および生物学的適用の改良された製品を作製するのに使用される。本発明は、カーボンナノチューブを含む材料、例えば、それらに限定されないが、繊維、フィルム、合成膜、コーティング、薬剤放出システム、分子回路構成成分の工業的加工を提供する。
請求項（抜粋）：
流体;
カーボンナノチューブを浮遊させることが可能な界面活性剤;および
カーボンナノチューブ
を含み、
該流体、界面活性剤およびカーボンナノチューブが、該カーボンナノチューブを浮遊させるのに好適な比で含まれることを特徴とする組成物。
IPC (4件)：
C01B31/02
, B01F17/10
, B01F17/12
, B01F17/18
C01B31/02 101F
, B01F17/10
, B01F17/12
, B01F17/18
4D077AA01
, 4D077AB01
, 4D077AC05
, 4D077DC28Z
, 4D077DC32Z
, 4D077DC42X
, 4D077DC64X
, 4G146AA11
, 4G146AA12
, 4G146CB10
, 4G146CB19
, 4G146CB32
, 4G146CB35
