反応容器及びそれを備えるプラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：河野登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331763
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148372
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】元素不純物で試料が汚染されず、且つプラズマによる損傷が少ない反応容器及びプラズマ処理装置。【解決手段】アルミニウム製の反応容器1の内側壁にアルミナ保護膜21が100 μm〜1000μmの膜厚で形成されている。アルミナ保護膜21はプラズマ溶射により内側壁を覆うようにアルミナを被着させて形成されている。処理室2内にマイクロ波及びプラズマ生成ガスが導入され、試料台3に高周波電圧が印加されて試料Wにプラズマ処理が施される。

請求項（抜粋）：

プラズマを用いて試料に反応処理を施す反応容器において、内面の一部又は全部にアルミナ保護膜を100μm〜1000μmの厚みで形成してあることを特徴とする反応容器。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , H05H 1/46

FI (3件)：

H05H 1/46 B , H05H 1/46 A , H01L 21/302 B

Fターム (7件)：

5F004AA16 , 5F004BB14 , 5F004BB29 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004DA16 , 5F004DB03

引用特許：

審査官引用 (4件)

プラズマ処理反応器内の導電性の面を保護するための方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-008690 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
特開平3-199372
堆積膜形成装置及びそれに用いられる電極
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-328719 出願人：キヤノン株式会社

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