絶縁樹脂組成物及びその使用

発明者： , , , , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：園田吉隆 , 小林義教
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-520388
公開番号（公開出願番号）：特表2008-506010
出願日： 2005年07月01日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：

本発明にかかる一実施態様は、ノルボルネン型ポリマー及びそれから形成される感光性絶縁性樹脂組成物に関する。他の実施態様は、該組成物から形成されるフィルムに関し、および、そのフィルムを含む電気、電子およびオプトエレクトロデバイス等の装置に関する。

請求項（抜粋）：

各々が式1:

IPC (2件)：

C08F 32/08 , C08F 4/70

FI (2件)：

C08F32/08 , C08F4/70

Fターム (43件)：

4J100AR09P , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100AR11R , 4J100BA02R , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA08P , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA16P , 4J100BA16Q , 4J100BA34Q , 4J100BA72P , 4J100BA72Q , 4J100BB11P , 4J100BC43Q , 4J100BC54R , 4J100BD10P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA39 , 4J100FA10 , 4J100FA19 , 4J100JA37 , 4J128AA01 , 4J128AB00 , 4J128AC45 , 4J128AC48 , 4J128CA52A , 4J128CB03A , 4J128CB81C , 4J128CB95C , 4J128EB29 , 4J128EC01 , 4J128EC02 , 4J128EC04 , 4J128FA02 , 4J128GA01 , 4J128GA06

引用特許：

審査官引用 (7件)

感光性ポリマー及びこれを含む化学増幅型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-374768 出願人：三星電子株式会社
フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-231613 出願人：現代電子産業株式会社
改善された耐エッチング性を有する共重合体フォトレジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-130713 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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