特許
J-GLOBAL ID：200903074537296266
めっき装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-340576
公開番号（公開出願番号）：特開2000-160390
出願日： 1998年11月30日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：
【要約】【課題】 めっき部と管理部を別々の部屋に設置し、メンテナンス等のダーティ作業で汚染の発生する作業は極力管理部を設置する部屋で行ない、めっき部のメンテナンス作業を最小限にし、めっき部からの汚染の問題が起ず、同一場所にO2ガスとH2ガスが放出されることがなく、安全性の高いめっき装置を提供すること。【解決手段】 めっきを行なうめっき部1と、めっき液の調整等を行なう管理部2とからなるめっき装置において、めっき部1はめっき液1-1を収容すると共に、陽極電極1-3と陰極としての被めっき基板1-4を対向して配置しめっきを行なうめっき槽1-2を具備し、管理部2はめっき液1-1の成分及び/又は濃度を調整する調整槽2-1、調整槽2-1のめっき液1-1に補充剤液を注入する液補充機構を具備し、管理部2の調整槽2-1とめっき部1のめっき槽1-2とのめっき液1-1を循環させる液循環機構を設け、めっき部1は第1の部屋に設置し、管理部2は第2の部屋に設置した。
請求項（抜粋）：
めっきを行なうめっき部と、めっき液の調整等を行なう管理部とからなるめっき装置において、前記めっき部はめっき液を収容すると共に、陽極電極と陰極としての被めっき体を対向して配置しめっきを行なうめっき槽を具備し、前記管理部はめっき液の成分及び/又は濃度を調整する調整槽、該調整槽のめっき液に補充剤液を注入する液補充機構を具備し、前記管理部の調整槽と前記めっき部のめっき槽とのめっき液を循環させる液循環機構を設け、前記めっき部は第1の部屋に設置し、前記管理部は第2の部屋に設置したことを特徴とするめっき装置。
IPC (3件)：
C25D 7/12
, C25D 17/00
, C25D 21/14
C25D 7/12
, C25D 17/00 F
, C25D 21/14 C
, C25D 21/14 G
4K024AA09
, 4K024AB01
, 4K024BB12
, 4K024CB01
, 4K024CB07
, 4K024CB08
, 4K024CB15
, 4K024CB26
, 4K024GA16
