特許
J-GLOBAL ID：200903074637771441
塗布装置および塗布方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-338065
公開番号（公開出願番号）：特開2007-144240
出願日： 2005年11月24日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】塗布領域における流動性材料の塗布の終端側において流動性材料の乾燥時間が他の領域よりも短くなることを抑制する。【解決手段】塗布装置は、基板9に向けて有機EL液を連続的に吐出する塗布ヘッド、塗布ヘッドを基板9に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動するヘッド移動機構および基板移動機構、並びに、これらの構成を制御する制御部を備える。塗布装置では、制御部により各構成が制御されて、基板9上の塗布領域91に有機EL液が塗布されるとともに、副走査方向における塗布ヘッドの相対移動の基板9上の終端側において塗布領域91の外側の非塗布領域92に有機EL液が塗布される。これにより、基板9の塗布領域91における有機EL液の塗布の終端側において、雰囲気中の有機EL液の溶媒成分の濃度が高くなり、有機EL液の乾燥時間が他の領域に塗布された有機EL液の乾燥時間よりも短くなることを抑制することができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて第1流動性材料および前記第1流動性材料の溶媒を含む第2流動性材料を連続的に吐出する吐出機構と、
前記吐出機構を前記基板の主面に対して平行な主走査方向に相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記吐出機構を前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する移動機構と、
前記吐出機構および前記移動機構を制御することにより、前記基板上の塗布領域に前記第1流動性材料を塗布するとともに、前記副走査方向における前記吐出機構の相対移動の前記基板上の終端側において前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第2流動性材料を塗布する制御部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
IPC (5件)：
B05C 5/00
, B05D 1/26
, B05C 15/00
, H05B 33/10
, H01L 51/50
B05C5/00 101
, B05D1/26 Z
, B05C15/00
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4D075AC06
, 4D075AC88
, 4F041AA02
, 4F041AA05
, 4F041AA16
, 4F041AB01
, 4F041BA13
, 4F041BA22
, 4F041BA38
, 4F041BA51
, 4F042AA02
, 4F042AA06
, 4F042AA27
, 4F042DC00
