ウェーハ洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小倉正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-093935
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299303
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：

【要約】【課題】数十枚のウェーハを水平状態で回転させながら洗浄することができるようにしたウェーハ洗浄装置を提供することである。【解決手段】カセット(10)に横たえられたままで収納されたウェーハ(60)をウェーハ移送用ロボット(20)により、ボート(50)に横たえられた状態で装着させ、ウェーハ(60)が横たえられて装着されたボート(50)をボート駆動手段(40)で下降させて、流体出入口が形成されたバス(30)に入れた後、ボート(50)を回転させながらウェーハ洗浄を行うように構成される。

請求項（抜粋）：

流体を収容又は噴射するバス内に複数枚のウェーハを水平状態に維持し、前記ウェーハを停止状態で又は回転させながら洗浄する装置であって、カセットに収納されたウェーハを横たえたままで移送させるウェーハ移送用ロボットと、前記ウェーハ移送用ロボットにより移送されたウェーハを横たえられたままで収納するボートと、前記ボートを昇降させると共に回転させるボート駆動手段と、前記ボート駆動手段により下降されたボートを収容し、壁面に多数の流体噴射及び排出口が形成されたバスとを含んでなることを特徴とするウェーハ洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 642 , H01L 21/304 648 , H01L 21/304

FI (3件)：

H01L 21/304 642 D , H01L 21/304 648 D , H01L 21/304 648 K

引用特許：

審査官引用 (4件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-014009 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-328143 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-154337 出願人：東京エレクトロン東北株式会社

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