特許
J-GLOBAL ID:200903074804624448

スパッタ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 尾身 祐助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-239236
公開番号(公開出願番号):特開平11-080944
出願日: 1997年09月04日
公開日(公表日): 1999年03月26日
要約:
【要約】【課題】 真空槽がコンパクトに構成でき、生産性、保全性のよいスパッタ装置の提供。【解決手段】 複数のスパッタ部に基板を順次移送して膜形成するスパッタ装置において、スパッタ部、基板装着部等の機能部を略同一円上に配置し、その中心部に基板を保持して回動して基板を各機能部のセット位置にセットする回転支持手段を設け、回動して各部に基板を移送するようにすると共にスパッタ部の基板セット位置を半径方向に調整可能としたことを特徴とするスパッタ装置。
請求項(抜粋):
複数のスパッタ部に基板を順次移送して膜形成するスパッタ装置において、スパッタ部、基板装着部等の機能部を略同一円上に配置し、その中心部に基板を保持して回動して基板を各機能部のセット位置にセットする回転支持手段を設け、回動して各部に基板を移送するようにすると共にスパッタ部の基板セット位置を半径方向に調整可能としたことを特徴とするスパッタ装置。
IPC (2件):
C23C 14/34 ,  C23C 14/56
FI (2件):
C23C 14/34 C ,  C23C 14/56 H
引用特許:
審査官引用 (10件)
  • 特開平3-158461
  • 特開昭61-159572
  • 特開昭61-159571
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