金属原子含有膜、金属原子含有膜材料及び金属原子含有膜の形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：荒船博司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-170048
公開番号（公開出願番号）：特開2004-011014
出願日： 2002年06月11日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】均質で耐久性の高い金属原子含有膜を、簡単な設備により高い生産効率で形成する。【解決手段】大気圧または大気圧近傍の圧力下において、対向する2種の電極間に、100kHzを越えた高周波電圧で、且つ、1W/cm2以上の電力を供給して放電させることにより、金属原子を含む反応性ガスをプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上に、金属原子含有膜を形成する。このように形成された金属原子含有膜は、動的二次イオン質量分析により得られた水素濃度をHとし、主な金属由来の金属原子濃度をMとした場合に、H/M値の膜厚方向における変動係数が5%以内である。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

金属原子を含有する金属原子含有膜において、動的二次イオン質量分析により得られた水素濃度をHとし、主な金属由来の金属原子濃度をMとした場合に、H/M値の膜厚方向における変動係数が5%以内であることを特徴とする金属原子含有膜。

IPC (7件)：

C23C16/30 , C23C16/18 , C23C16/505 , H01B5/14 , H01B13/00 , H01L21/285 , H05H1/24

FI (7件)：

C23C16/30 , C23C16/18 , C23C16/505 , H01B5/14 A , H01B13/00 503B , H01L21/285 C , H05H1/24

Fターム (51件)：

4K030AA11 , 4K030BA01 , 4K030BA11 , 4K030BA16 , 4K030BA24 , 4K030BA35 , 4K030CA06 , 4K030CA07 , 4K030CA12 , 4K030CA17 , 4K030FA01 , 4K030JA06 , 4K030JA09 , 4K030LA01 , 4K030LA02 , 4K030LA03 , 4K030LA04 , 4K030LA11 , 4K030LA15 , 4K030LA16 , 4K030LA18 , 4K030LA19 , 4K030LA20 , 4K030LA23 , 4K030LA24 , 4M104AA10 , 4M104BB36 , 4M104DD43 , 4M104DD44 , 4M104DD45 , 4M104DD64 , 5C040FA10 , 5C040GC06 , 5C040GC18 , 5C040GD07 , 5C040GE07 , 5C040GH10 , 5C040JA09 , 5C040KB13 , 5C040KB17 , 5C040KB28 , 5C040MA10 , 5G307FA01 , 5G307FA02 , 5G307FB01 , 5G307FB02 , 5G307FC02 , 5G307FC05 , 5G307FC09 , 5G323BA04 , 5G323BB03

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平2-211619
透明導電膜の製造方法とそれを用いた光電変換半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-068524 出願人：松下電器産業株式会社
酸化亜鉛薄膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-080758 出願人：大倉工業株式会社

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