特許

J-GLOBAL ID：200903074865804651

プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置状態を検出する方法

発明者： 手束 勉 ,  板橋 直志 ,  伊藤 温司
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-272396
公開番号（公開出願番号）：特開2009-099496
出願日： 2007年10月19日
公開日（公表日）： 2009年05月07日
要約：

【課題】プラズマ処理装置の状態を高感度で検出し管理することで、長期間安定に処理を行う。【解決手段】真空処理室10と、プラズマ生成用高周波電源16と、入射波53の処理装置における反射波54から装置の状態を推定する、波形発生器32およびVCO33、方向性結合器34、検出器35、測定データ処理部36とを有する測定装置部3を備えたプラズマ処理装置において、プラズマ放電のない状態の処理装置内に周波数を掃引した測定用高周波53を導入し、反射波54の吸収スペクトル周波数の変動をモニタすることで処理装置の状態変化を管理する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空処理室と、該真空処理室にプラズマを生成するプラズマ生成手段を有し、前記真空処理室内に配置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、 プラズマが生成されていない状態の前記真空処理室内にプラズマ放電を生じない微弱な電力の電磁波を周波数を掃引させながら放射し、前記真空処理室から反射する前記電磁波の反射電力の周波数スペクトルを計測する反射電力の周波数スペクトル計測手段を設けた ことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H 1/00 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

H05H1/00 A ,  H01L21/302 101B ,  H01L21/302 101C ,  H01L21/31 C ,  H05H1/46 L ,  H05H1/46 M

Fターム (19件)：

5F004AA16 ,  5F004BA09 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB22 ,  5F004BC08 ,  5F004CB05 ,  5F045AA08 ,  5F045AA09 ,  5F045BB08 ,  5F045DP02 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH11 ,  5F045EH12 ,  5F045EH19 ,  5F045EM05 ,  5F045GB12 ,  5F045GB16

引用特許：

出願人引用 (4件)

• マイクロ波プラズマプロセス装置及びプラズマプロセス制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-094278   出願人：大見忠弘, 東京エレクトロン株式会社
• プラズマ処理装置とその評価方法及びその制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-207332   出願人：池之内澄英
• プラズマ処理方法、プラズマ処理装置およびプラズマモニタリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-246175   出願人：株式会社東芝
• プラズマモニタリング方法、プラズマモニタリング装置及びプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-117817   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-083681   出願人：三菱電機株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-338812   出願人：株式会社日立製作所
• プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の高周波特性測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-017002   出願人：三菱電機株式会社
• プラズマ密度情報測定方法及びその装置、並びにプラズマ密度情報測定用プローブ、プラズマ密度情報測定用記録媒体、プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-204542   出願人：株式会社ニッシン