特許
J-GLOBAL ID：200903074930321230
露光装置、合焦位置検出装置及びそれらの方法、並びにデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-128802
公開番号（公開出願番号）：特開2005-311198
出願日： 2004年04月23日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】反射型原板のパターンを基板に投影し転写する露光装置において、投影光学系の焦点位置の検出を可能にする。【解決手段】反射型原板1を保持して駆動するする原板ステージ10と、基板2を保持して駆動する基板ステージ12と、反射型原板1のパターンを基板2に投影する投影光学系3と、基板ステージ12に設けられた基準部材13に形成されているフォーカスマークを原板ステージ10に設けられた基準部材11に形成されている反射面を介して計測光により照明して評価する評価器5と、評価器5による評価結果に基づいて投影光学系3の合焦位置を検出するための制御器9とを備える。制御器9は、投影光学系3の合焦位置を検出する際に、原板ステージ10を計測光の光軸AXMに沿って移動させるとともに計測光が基準部材13に入射するように基板ステージ12を投影光学系3の光軸AXWとほぼ垂直な方向に移動させる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
反射型原板を保持して駆動するする原板ステージと、基板を保持して駆動する基板ステージと、前記反射型原板のパターンを前記基板に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記基板ステージ又は前記基板に形成されている第1光学要素を前記原板ステージ又は前記反射型原板に形成されている第2光学要素を介して計測光により照明して評価する評価器と、
前記評価器による評価結果に基づいて前記投影光学系の合焦位置を検出するための制御器と、
を備え、前記制御器は、前記投影光学系の合焦位置を検出する際に、前記原板ステージを前記計測光の光軸に沿って移動させるとともに前記計測光が前記第1光学要素に入射するように前記基板ステージを前記投影光学系の光軸とほぼ垂直な方向に移動させることを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
H01L21/027
, G02B7/28
, G02B7/36
, G03F7/207
H01L21/30 516A
, G03F7/207 H
, H01L21/30 517
, H01L21/30 531A
, G02B7/11 N
, G02B7/11 D
, G02B7/11 M
2H051AA10
, 2H051BA70
, 2H051BA72
, 2H051CB06
, 5F046BA05
, 5F046CB24
, 5F046DA14
, 5F046DB03
, 5F046GA03
