特許
J-GLOBAL ID:200903074994016902
微細周期性溝の観測方法とその観測装置、微細周期性溝の加工観測方法とその加工観測装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-137157
公開番号(公開出願番号):特開2007-309710
出願日: 2006年05月17日
公開日(公表日): 2007年11月29日
要約:
【課題】 微細周期性溝の溝間隔を高精度に観測及び加工観測できる微細周期性溝の観測方法と装置及び加工観測方法と装置を提供するものである。【解決手段】フェムト秒レーザ加工機で表面加工された微細周期性溝M1における溝間隔の観測に際して、微細周期性溝M1に垂直面方向又は任意な斜め方向に入射される測定用レーザの波長λと、上記測定用レーザの回折光L2の回折角度βと、上記回折角度の回折光をキャッチする受光器20の測定次数mと、上記微細周期性溝M1の溝間隔dとの関係する理論式d(sinα±sinβ)=mλから求めた測定次数mに、受光器20を配置して溝間隔dを視覚またはデータとして観測する微細周期性溝の観測方法である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
フェムト秒レーザ加工機等で表面加工された微細周期性溝の観測に際して、上記微細周期性溝に対して垂直面方向又は任意な斜め方向から入射される測定用レーザの入射角度αおよびその波長λと、上記測定用レーザの回折光の回折角度βと、上記回折角度の回折光をキャッチする受光器の測定次数mと、上記微細周期性溝の溝間隔dとの理論式d(sinα±sinβ)=mλから求めた測定次数mに、受光器を配置して溝間隔dを実測確認することを特徴とする微細周期性溝の観測方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (18件):
2F065AA22
, 2F065BB02
, 2F065CC03
, 2F065CC11
, 2F065FF48
, 2F065GG04
, 2F065GG05
, 2F065GG06
, 2F065HH04
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ23
, 2F065SS13
, 2F065UU05
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
表面検査装置および方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-305598
出願人:松下電器産業株式会社
審査官引用 (13件)
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