特許
J-GLOBAL ID：200903075001148554
荷電粒子線転写装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223681
公開番号（公開出願番号）：特開平10-070059
出願日： 1996年08月26日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】【課題】 転写すべきパターンをマスク上の複数の小領域に分割して、各小領域のパターンを順次転写対象の基板上に転写する際に、焦点位置のずれを高精度に補正すると共に、各小領域の転写像のつなぎ精度を向上する。【解決手段】 マスク1上の各小領域のパターンを順次、投影レンズ14、及び対物レンズ15よりなる磁気対称ダブレット方式の結像系を介してウエハ5上に転写する。投射光学系30A及び集光光学系30Bよりなる焦点位置検出系によってウエハ5の表面の焦点位置の変化を検出し、この変化を試料台20中のZ駆動機構を介して機械的に補正する。像面湾曲、及びクーロン効果による結像面のデフォーカスは、偏向フォーカス補正量設定器26によって結像系の励磁電流を制御して結像面の焦点位置を制御することによって電子光学的に補正する。
請求項（抜粋）：
転写すべきパターンが互いに離間する複数の小領域に分割して形成されたマスクに対して、視野選択用の偏向照明系を介して前記小領域を単位として順次荷電粒子線を照射し、前記小領域内のパターンの結像系による像を転写対象の基板上で実質的につなぎ合わせて転写することによって、前記基板上に所定のパターンの像を転写する荷電粒子線転写装置において、前記マスク及び前記基板の少なくとも一方の高さを検出する高さ検出手段と、該高さ検出手段の検出結果に応じて前記マスク及び前記基板の表面の少なくとも一方の高さを補正する機械的な高さ補正手段と、前記結像系の像面湾曲及びクーロン効果による結像面のデフォーカスを補正するための電子光学的な焦点補正手段と、を備えたことを特徴とする荷電粒子線転写装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, H01J 37/21
, H01J 37/305
H01L 21/30 541 J
, G03F 7/20 504
, H01J 37/21 B
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 541 D
, H01L 21/30 541 F
