特許

J-GLOBAL ID：200903075013448626

粒子の被膜方法および装置

発明者： 小林 幹彦 ,  江頭 満 ,  檀 武弘 ,  新谷 紀雄
出願人/特許権者： 科学技術庁金属材料技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-280105
公開番号（公開出願番号）：特開2000-109969
出願日： 1998年10月01日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：

【要約】【課題】 粒子の表面に均一、且つ高純度な被膜相を形成することができ、粒子表面の改質や電導性等の機能の付与などによって粒子の付加価値を高めることのできる、新しい粒子の被膜方法および装置を提供する。【解決手段】 真空蒸着により粒子の表面へ被膜を形成させる方法において、粒子を振動子による振動を加えることにより連続的に運動させて、この粒子全表面を均等に分子線源の方向に向かせながら、真空蒸着を行なう。

請求項（抜粋）：

真空蒸着により粒子の表面へ被膜を形成させる方法において、粒子を振動子による振動を加えることにより連続的に運動させて、この粒子全表面を均等に分子線源の方向に向かせながら、真空蒸着を行なうことを特徴とする粒子の被膜方法。

IPC (3件)：

C23C 14/00 ,  B22F 1/02 ,  C23C 14/24

FI (3件)：

C23C 14/00 A ,  B22F 1/02 Z ,  C23C 14/24 S

Fターム (14件)：

4K018BB04 ,  4K018BB05 ,  4K018BC28 ,  4K029AA04 ,  4K029AA08 ,  4K029AA09 ,  4K029AA22 ,  4K029BA04 ,  4K029BA47 ,  4K029BC03 ,  4K029CA01 ,  4K029DA01 ,  4K029DB05 ,  4K029DB18

引用特許：

審査官引用 (11件)

• 特開平1-028364
  
• 特開昭58-031076
  
• 特開昭61-030663
  
• 特開平1-147065
  
• 粉末への被膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-011404   出願人：日本真空技術株式会社
• 複合粉末製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-008302   出願人：芝府エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
• 導電性薄膜被覆装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-123372   出願人：株式会社リコー
• 特開平1-028364
  
• 特開昭58-031076
  
• 特開昭61-030663
  
• 特開平1-147065