特許

J-GLOBAL ID：200903075033027163

プラズマ処理装置

発明者： 松本 直樹
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-201979
公開番号（公開出願番号）：特開平11-045799
出願日： 1997年07月28日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】【課題】 単一モードのマイクロ波を均一に伝搬させて、プラズマの生成分布の均一化が図れるプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 矩形部313 と導入部311 とを結ぶ整合部312 はステップ状をなし、そのサイズは、誘電体線路31の幅方向中央部を伝搬するマイクロ波の位相を、幅方向端部を伝搬するマイクロ波の位相と略同じにし、インピーダンスが整合するように設計されている。整合部312 のマイクロ波進行方向長さLはλg/2の整数倍であり、整合部312 の幅W3は、導入部311 の幅W1の整数倍であることが望ましい。矩形部313 は、マイクロ波進行方向に埋設された仕切り板314 によって、幅方向に複数に仕切られている。矩形部313 の幅W2は、導入部311 の幅W1の整数倍であることが望ましく、例えばk=3である場合、仕切り板314 は、矩形部313 を幅方向に3等分するように設けられている。

請求項（抜粋）：

マイクロ波導波管を介して、マイクロ波進行方向に延びる板状の誘電体線路へ導入されたマイクロ波によって電界が生成され、該電界を前記誘電体線路の一面側に対向配置された反応室へマイクロ波導入口を介して導入してプラズマを発生させることにより、前記反応室内の被処理物に処理を施すプラズマ処理装置において、前記誘電体線路は、前記マイクロ波導波管に挿入されている導入部と、前記マイクロ波導入口に対応する形状の本体部と、これら導入部と本体部とを接続する整合部とを有し、前記導入部の幅W1は前記マイクロ波導波管の内法寸法と略同じであり、前記本体部の幅W2は前記導入部より大きく前記マイクロ波導入窓と略同じであり、前記整合部は前記導入部及び前記本体部をステップ状に接続する形状をなしており、該整合部の幅W3はW1<W3<W2であり、前記本体部には、これを幅方向に分割すべく、前記マイクロ波進行方向に延びる導電体板が埋設されていることを特徴とするプラズマ処理装置。