特許
J-GLOBAL ID:200903075043031150
検査装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-193443
公開番号(公開出願番号):特開2002-014052
出願日: 2000年06月27日
公開日(公表日): 2002年01月18日
要約:
【要約】【課題】 半導体ウェハ等の検査対象の欠陥をより正確に検出する。【解決手段】 画像処理部3内のCPU31により、画像撮像部2で撮像された半導体ウェハのデバイスパターンである画像データの明るさのばらつきを計算し、明るさの分布幅Dと中央値Mを求め、所定の分布幅D2と中央値M2となるように補正し、画像データの明るさのばらつきを補正する。
請求項(抜粋):
検査対象の画像をもとに上記検査対象に生じた欠陥を検査する検査装置において、上記検査対象の画像を撮像する画像撮像手段と、上記画像撮像手段により撮像された検査対象の画像を処理する画像処理手段とを備え、上記画像処理手段は、上記画像撮像手段により撮像された検査対象の画像から欠陥を検出する前処理として、上記画像撮像手段により撮像された画像の明るさのばらつきを補正する処理を行うことを特徴とする検査装置。
IPC (4件):
G01N 21/956
, G06T 1/00 305
, G06T 7/00 300
, H01L 21/66
FI (4件):
G01N 21/956 A
, G06T 1/00 305 A
, G06T 7/00 300 E
, H01L 21/66 J
Fターム (39件):
2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB07
, 2G051BB17
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051EA16
, 2G051EA17
, 2G051EA24
, 2G051ED07
, 4M106AA01
, 4M106BA20
, 4M106CA41
, 4M106DB04
, 4M106DB20
, 4M106DB21
, 4M106DJ19
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 4M106DJ27
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CE11
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC33
, 5L096AA06
, 5L096BA03
, 5L096CA02
, 5L096EA12
, 5L096HA08
, 5L096MA03
引用特許: