特許
J-GLOBAL ID：200903075062918190
自己診断型自動分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-068482
公開番号（公開出願番号）：特開2007-248089
出願日： 2006年03月14日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】本発明は反応過程における測定値を利用して、検査が適切に行われたか否かを判定する手段を提供し、1日に数千から数万テストが計測される中においても異常反応をしめす項目の見落しを防止することを目的とする。【解決手段】分析検査結果の検証を実現するために、反応過程における光度計の値を計測し、前記光度計による反応過程データと、前記反応過程に付随する機構部や或いはサブシステムの稼動状態の状態変化から分析測定結果を検証するものである。また正常な反応過程データに関するデータベース(光度計の値と反応過程に付随する機構部や或いはサブシステムの稼動状態)を備え、測定された時系列の反応過程データを予め設定されたデータベース内情との照合することによって、所定の区分毎に或いは装置の進行プロセスに合致した区分毎に逐次、正常データか否かを判定するエンジンを備えている。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
測定が正常に終了した前記反応過程の時系列データから基準となるマハラノビス空間を作成するステップと、
前記反応過程を予め定めた複数の過程に分け、該複数の過程毎に区分して新たなマハラノビス空間を作成するステップと、
前記予め定められた複数の過程の終了時点で前記マハラノビス空間でのマハラノビスの距離を算出するステップと、
を含むことを特徴とする測定反応過程の異常の有無判定方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
2G058CB04
, 2G058CD04
, 2G058CE08
, 2G058ED03
, 2G058FA02
, 2G058FB02
, 2G058GA02
, 2G058GD00
, 2G058GD07
出願人引用 (6件)
-
特許第328087号
-
自動分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-361386
出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
半導体製造装置の寿命診断方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-263548
出願人：株式会社東芝
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審査官引用 (5件)
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