特許
J-GLOBAL ID:200903075090487677
磁気ディスク基板研磨用組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-231724
公開番号(公開出願番号):特開2000-063805
出願日: 1998年08月18日
公開日(公表日): 2000年02月29日
要約:
【要約】【課題】磁気ディスクの表面粗さが小さく、かつ突起や研磨傷を発生させることなく、高密度記録が達成可能であり、しかも経済的な速度で研磨することができる磁気ディスク基板研磨用組成物を提供する。【解決手段】水、α-アルミナ及び酢酸で安定化したアルミナゾルを含有することを特徴とする磁気ディスク基板研磨用組成物。
請求項(抜粋):
水、α-アルミナ及び酢酸で安定化したアルミナゾルを含有することを特徴とする磁気ディスク基板研磨用組成物。
IPC (2件):
C09K 3/14 550
, C09K 3/14
FI (2件):
C09K 3/14 550 D
, C09K 3/14 550 M
引用特許:
審査官引用 (8件)
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研磨用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-012878
出願人:株式会社フジミインコーポレーテッド
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研磨用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-282610
出願人:セイミケミカル株式会社
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特開平2-084485
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磁気ディスク基板研磨用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-153326
出願人:昭和電工株式会社, 山口精研工業株式会社
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特公昭47-005741
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酸性水性アルミナゾルの製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-192197
出願人:日産化学工業株式会社
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特開平2-084485
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特公昭47-005741
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