電子ビームによるパターン検査方法とその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-117305
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304040
出願日： 1996年05月13日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】電子ビームによるパターン検査では、被検査物が絶縁物であると、電子ビームの照射により被検査物が帯電するという問題があった。被検査物が帯電すると、パターンを安定かつ正確に検出することができないため、検査が不可能になる。【解決手段】電子光学鏡筒と被検査物の空隙は非常に狭くして、オリフィ二次電子検出器は、電子光学鏡筒の内部に設け、被検査物からの二次電子信号を検出する。電子ビームの走査とXYステージの移動による被検査物全面のパターンを検出する。検出した画像信号をA/D変換し、デジタル画像信号とする。デジタル画像信号に画像処理を施しパターン欠陥を抽出する。

請求項（抜粋）：

基板の表面に電子ビームを照射し走査する電子ビーム照射手段と、前記基板から発生する二次電子、あるいは、反射電子の検出器と、前記検出器からのパターン信号から欠陥を判定する欠陥判定手段と、前記基板を納めた試料室と、前記試料室の真空度を設定圧力に制御する制御手段とを具備することを特徴とする電子ビームによるパターン検査装置。

IPC (3件)：

G01B 15/00 , G01R 31/302 , H01L 21/66

FI (3件)：

G01B 15/00 B , H01L 21/66 J , G01R 31/28 L

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平3-165435
電子ビーム装置及びオリフィス形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-209072 出願人：富士通株式会社
電子線照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-130471 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ

全件表示

前のページに戻る