特許
J-GLOBAL ID：200903075173912701

カルボシロキサンデンドリマーおよびデンドリマー含有有機重合体

発明者：
吉武 誠

吉武 誠 について

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大川 直

大川 直 について

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森田 好次

森田 好次 について

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古川 晴彦

古川 晴彦 について


出願人/特許権者：
東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社

東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216468
公開番号（公開出願番号）：特開2001-040093
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：
【要約】【課題】 ラジカル重合可能な基を1分子中に1個含有し、重合反応性に優れた新規なカルボシロキサンデンドリマーおよび、該カルボシロキサンデンドリマーを重合してなるデンドリマー含有有機重合体を提供する。【解決手段】 一般式:【化1】{式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、R2は炭素原子数1〜10のアルキレン基以外の2価の有機基であり、bは1〜3であり、X1はシリルアルキル基であり、Yはラジカル重合可能な基である。}で示されるラジカル重合可能な基を含有するカルボシロキサンデンドリマーおよび、(A)前記カルボシロキサンデンドリマーと(B)ラジカル重合性有機単量体を重合してなるデンドリマー含有有機重合体。
請求項（抜粋）：
一般式:【化1】{式中、R1は炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基であり、R2は炭素原子数1〜10のアルキレン基以外の2価の有機基であり、bは1〜3であり、X1はi=1とした場合の次式で示されるシリルアルキル基である。【化2】(式中、R1は前記と同じであり、R3は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、R4は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、Xi+1は水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基もしくはアリール基、上記シリルアルキル基からなる群から選ばれる基である。iは該シリルアルキル基の階層を示している1〜10の整数であり、aiは0〜3である。)Yは、一般式:【化3】(式中、R5は水素原子もしくはメチル基である。)で示される基、一般式:【化4】(式中、R6は水素原子もしくはメチル基であり、R7は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、cは0〜4である。)で示される基および炭素原子数2〜10のアルケニル基からなる群から選択されるラジカル重合可能な基である。}で示されるラジカル重合可能な基を含有するカルボシロキサンデンドリマー。
IPC (5件)：
C08G 77/20 ,  C07F 7/08 ,  C08F299/08 ,  C08G 77/42 ,  C08G 77/50
FI (5件)：
C08G 77/20 ,  C07F 7/08 X ,  C08F299/08 ,  C08G 77/42 ,  C08G 77/50
Fターム (38件)：
4H049VN01 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ07 ,  4H049VQ19 ,  4H049VQ30 ,  4H049VQ35 ,  4H049VQ57 ,  4H049VR21 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VR43 ,  4H049VU28 ,  4H049VW02 ,  4J027AF03 ,  4J027AF04 ,  4J027AF05 ,  4J027AF06 ,  4J027AJ02 ,  4J027BA01 ,  4J027BA03 ,  4J027BA04 ,  4J027BA05 ,  4J027BA06 ,  4J027BA07 ,  4J027BA08 ,  4J027BA09 ,  4J027BA10 ,  4J027BA13 ,  4J027BA14 ,  4J027CB03 ,  4J027CB09 ,  4J027CC02 ,  4J035BA11 ,  4J035BA14 ,  4J035CA13N ,  4J035CA131 ,  4J035HA01 ,  4J035HB10
引用特許：
出願人引用 (18件)
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審査官引用 (18件)
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