プラズマ表面処理方法及び装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-053635
公開番号（公開出願番号）：特開2002-253952
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月10日
要約：

【要約】【目的】嵩高く且つ広い面積を有する基材表面の表面改質やコーティングを大気圧付近の圧力で効率的に行なうことができる連続プラズマ処理方法、ならびにそのための装置を提供すること。【構成】一定の間隔を以て対向する一対の多孔板電極から構成される対向電極間に、電圧を印加しつつ、プラズマ処理ガスを概ね大気圧下で、前記対向電極の一方の電極側からそれぞれの電極に設けられた孔を通じ他方の電極側に噴出すように供給し、前記対向電極間に形成される放電空間を通過しプラズマ励起した前記プラズマ処理ガスを前期対向電極に対向して設置した被処理物表面に噴きつけ処理することを特徴とするプラズマ処理方法。ならびに、そのための装置。

請求項（抜粋）：

ガス透過孔を有するA電極、及びB電極から構成され、一定の間隔を以て対向する対向電極間に、電圧を印加しつつ、プラズマ処理ガスを概ね大気圧下で、A電極側からA電極、及びB電極にそれぞれ設けられたガス透過孔を通じB電極の外側に噴出すように供給し、プラズマ処理ガスを対向電極間に形成されるグロー放電空間を通過させることによりプラズマ励起させ、励起したプラズマ処理ガスをB電極のA電極側と反対側に配置した被処理物表面に噴きつけることを特徴とするプラズマ表面処理方法。

IPC (6件)：

B01J 19/08 , B01J 19/24 , C08J 7/00 CFD , C08J 7/00 306 , H05H 1/24 , C08L 67:00

FI (6件)：

B01J 19/08 H , B01J 19/24 Z , C08J 7/00 CFD Z , C08J 7/00 306 , H05H 1/24 , C08L 67:00

Fターム (54件)：

4F073AA01 , 4F073AA04 , 4F073AA17 , 4F073BA07 , 4F073BA08 , 4F073BA13 , 4F073BA16 , 4F073BA18 , 4F073BA19 , 4F073BA23 , 4F073BA24 , 4F073BA26 , 4F073BA29 , 4F073BA31 , 4F073BB01 , 4F073CA01 , 4F073CA62 , 4F073CA63 , 4F073CA65 , 4F073CA67 , 4F073CA68 , 4F073CA70 , 4F073CA71 , 4F073CA72 , 4F073DA05 , 4F073DA06 , 4F073DA08 , 4F073DA09 , 4G075AA30 , 4G075BA10 , 4G075BD03 , 4G075CA12 , 4G075CA16 , 4G075CA25 , 4G075CA51 , 4G075CA62 , 4G075CA63 , 4G075DA12 , 4G075EA01 , 4G075EB01 , 4G075EB42 , 4G075EC02 , 4G075EC21 , 4G075EE31 , 4G075FA03 , 4G075FA14 , 4G075FA16 , 4G075FB02 , 4G075FB04 , 4G075FB06 , 4G075FB12 , 4G075FC06 , 4G075FC11 , 4G075FC15

引用特許：

審査官引用 (3件)

大気圧プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-049791 出願人：株式会社リコー
プラズマCVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-332571 出願人：日本電気株式会社
微粒子の分子量を変化させるための電気的方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-523189 出願人：ユニバーシティオブアラスカ

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