特許
J-GLOBAL ID:200903075496641227
外観検査方法及び装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
桂木 雄二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-151531
公開番号(公開出願番号):特開平10-325806
出願日: 1997年05月26日
公開日(公表日): 1998年12月08日
要約:
【要約】【課題】 微細パターンの外観検査を高速且つ高精度に実行できる方法及び装置を提供する。【解決手段】 物体の検査画像とその検査画像に対応する基準画像とを入力し、検査画像の各画素について当該検査画素及びその近傍画素からなる検査画素領域における画素間の輝度差の絶対値を加算することで検査画像特徴データを生成すると共に、同様にして、基準画像の各画素について当該基準画素及びその近傍画素からなる基準画素領域における画素間の輝度差の絶対値を加算することで基準画像特徴データを生成する。そして、検査画像特徴データと基準画像特徴データとを画素毎に比較することで物体の欠陥判定を行う。
請求項(抜粋):
物体の外観を画像処理により検査する検査装置において、前記物体の検査画像を入力する検査入力手段と、前記検査画像に対応する基準画像を入力する基準入力手段と、前記検査画像の各画素について、当該検査画素及びその近傍画素からなる検査画素領域における画素間の輝度差に基づいて検査画像特徴データを生成する第1特徴抽出手段と、前記基準画像の各画素について、当該基準画素及びその近傍画素からなる基準画素領域における画素間の輝度差に基づいて基準画像特徴データを生成する第2特徴抽出手段と、前記検査画像特徴データと前記基準画像特徴データとを画素毎に比較することで前記物体の欠陥判定を行う判定手段と、からなることを特徴とする外観検査装置。
IPC (3件):
G01N 21/88
, G01B 11/24
, H01L 21/66
FI (5件):
G01N 21/88 E
, G01N 21/88 J
, G01B 11/24 K
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Z
引用特許:
審査官引用 (7件)
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パターン欠陥検査方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-209453
出願人:株式会社東芝
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外観検査による溶接状態判定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-214032
出願人:松下電工株式会社
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特開平2-187651
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特開昭62-184579
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特開平4-038452
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線分検出方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-186474
出願人:松下電器産業株式会社
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特開昭63-127377
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